一氧化硅

一氧化硅 MSDS

Silicon monoxide

一氧化硅性质、用途与生产工艺

概述

一氧化硅，白色立方系晶体或棕色粉末，不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸混合液，与沸苛性碱溶液作用生成硅酸盐和氢气，能被卤素氧化，在空气中表面易氧化生成二氧化硅保护膜而变得无活性，高温下有强还原性，能将水蒸气、二氧化碳、石灰石等物质还原；工业上常由二氧化硅与单质硅粉在高真空1400℃以上反应后升华制得；常用于制备光学玻璃和半导体材料。

理化性质

白色立方系晶体或棕色粉末。熔点高于1702℃，沸点1880℃，相对密度2.13。硬度与硅相似。红热时也不导电。溶于稀的氢氟酸和硝酸的混合液，亦溶于浓碱溶液，并放出氢生成硅酸盐。不溶于水。在空气中表面易氧化生成二氧化硅保护膜而变得无活性。在高温下有强还原性，能将水蒸气、二氧化碳、石灰石等还原。 300～400℃时与卤素反应。只有在高于1500℃时才能稳定存在。低于1500℃时按下式反应分解。
2SiO=Si+SiO2

制备方法

1.由二氧化硅与单质硅粉在高真空1400℃以上反应后升华而得。
SiO2+Si=2SiO

图1为一氧化硅合成工艺流程图
2.由碳和过量的二氧化硅加热到2000℃左右后升华而得。
SiO2+C=SiO+CO
3.在高温下用氢气还原二氧化硅，再经真空升华而制得。
H2+SiO2=SiO+H2O

用途

用于制光学玻璃和半导体材料。
有关一氧化硅的概述、理化性质、制备方法、用途是由Chemicalbook的丁红编辑整理（2015-11-16）

化学性质 

白色立方体或黄土色无定形粉末，在空气中热处理时，黄土色粉末变成白色粉末。熔点大于1702℃。沸点1880℃。相对密度2.13。不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸的混酸中。

用途 

一氧化硅微粉末因极富有活性，可作为精细陶瓷合成原料，如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料。

用途 

用作光学玻璃和半导体材料的制备

用途 

作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。

生产方法 

将SiO2含量为99.5%的二氧化硅粉末和煤沥青粉末混合，C/SiO2混合摩尔比为2.0，混合物经减压加热处理，其温度为1600℃，压力为1.013 kPa，经还原反应生成SiO蒸气，通入氩气，将SiO蒸气凝结输送，制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。
SiO2+C→SiO+CO

一氧化硅 上下游产品信息

上游原料

下游产品

一氧化硅 试剂级价格

更新日期	产品编号	产品名称	CAS编号	包装	价格
2024/01/19	22729	一氧化硅(II),光学纯, 99.8% (metals basis) Silicon(II) oxide, Optical Grade, 99.8% (metals basis)	10097-28-6	50g	657元
2024/01/19	22729	一氧化硅(II),光学纯, 99.8% (metals basis) Silicon(II) oxide, Optical Grade, 99.8% (metals basis)	10097-28-6	250g	2393元

一氧化硅 生产厂家

 

10097-28-6, 一氧化硅 相关搜索:

• Inorganic Chemicals
• metal oxide
• Oxides
• Metal and Ceramic Science
• 高端化学
• 中间体-化工中间体
• 氧化物粉体-一氧化硅（SiO）
• 氧化物-二氧化硅
• 无机化工原料
• 氧化物
• 常规氧化物粉体-一氧化硅
• 化工原料
• 生化试剂
• 合成中间体
• 生化试剂-其他化学试剂
• 硅烷试剂
• 无机氧化物
• 无机化工
• 镀膜材料
• 无机盐
• 无机化工产品
• Cn硅化合物及硅酸盐
• 硅
• 类金属
• 催化和无机化学
• OSi
• 纳米一氧化硅
• 一氧化硅,99.9%
• 一氧化硅(氧化亚硅)
• 一氧化硅 SIO
• 一氧化硅微粉末
• 一氧化硅, OPTICAL GRADE, 99.7% (METALS BASIS)
• 一氧化硅, 99.9% (METALS BASIS)
• 一氧化硅, 99.99% (METALS BASIS)
• 一氧化硅, OPTICAL GRADE, 99.8% (METALS BASIS)
• 一氧化硅, OPTICAL GRADE, 99.5% (METALS BASIS)
• 氧化亚硅溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THIC
• 氧化亚硅溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THIC
• 氧化亚硅溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THIC
• 氧化亚硅溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THIC
• 一氧化硅
• 氧化亚硅溅射靶
• 氧化硅
• 氧化亚硅溅射靶,76.2MM(3.0IN)DIAX3.18MM(0.125IN)THICK,99.9%(METALSBASIS)
• 氧化亚硅溅射靶,50.8MM(2.0IN)DIAX3.18MM(0.125IN)THICK,99.9%(METALSBASIS)
• 氧化亚硅溅射靶,76.2MM(3.0IN)DIAX6.35MM(0.250IN)THICK,99.9%(METALSBASIS)
• 氧化亚硅溅射靶,50.8MM(2.0IN)DIAX6.35MM(0.250IN)THICK,99.9%(METALSBASIS)
• 氧化亚硅(II)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS)
• 氧化亚硅(II)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 3.18MM (0.125IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS)
• 氧化亚硅(II)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 3.18MM (0.125IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS)
• 一氧化硅(II), 99.9% (METALS BASIS)
• 一氧化硅(II), 光学级, 99.5% (METALS BASIS)
• 一氧化硅(II),光学纯, 99.8% (METALS BASIS)
• 一氧化硅(II), 光学级, 99.8% (METALS BASIS)
• 一氧化硅(II), 99.99% (METALS BASIS)
• 氧化亚硅(II)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS)
• 一氧化硅(II), 光学纯, 99.7% (METALS BASIS)
• 一氧化硅, OPTICAL GRADE (METALS BASIS)