[[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸

[[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸 化学構造式
34690-00-1
CAS番号.
34690-00-1
化学名:
[[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸
别名:
ホスホノメチルイミノビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロ)テトラキスメチレンテトラキスホスホン酸;N,N-ビス[6-[ビス(ホスホノメチル)アミノ]ヘキシル]ホスホノメタンアミン;[[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸;[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(ヘキサメチレンニトリロ)テトラキスメチレンテトラキス(ホスホン酸);[[(ホスホノメチル)イミノ]ビス[6,1-ヘキサンジイルニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸;[ビス[6-[ビス(ジヒドロキシホスフィニルメチル)アミノ]ヘキシル]アミノ]メチルホスホン酸
英語名:
Bis(hexamethylenetriaminepenta(methylenephosphonic acid))
英語别名:
BHMTPMPA;BHMTPHPN(Nax);BHMTPh.PN(Nax);BIS(HEXAMETHYLENE)TRIAMINE-PENTAKIS(ME.-;bis1,6-subhexyltriamine pentamethronic acid;PARTIALLY NEUTRALISED SODIUM SALT OF BIS HEXAMETHYLENE;bis(hexamethylenetriaminepenta(methylenephosphonic acid));Bishexamethylenetriamine,pentamethylenepentaphosphonicacid;bis(hexamethylene)triamine-pentakis(me.-phosphonicac.)sol.;BIS(HEXAMETHYLENE)TRIAMINE-PENTAKIS(METHYLPHOSPHONIC ACID)
CBNumber:
CB4756129
化学式:
C17H44N3O15P5
分子量:
685.41
MOL File:
34690-00-1.mol

[[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸 物理性質

沸点 :
1002.7±75.0 °C(Predicted)
比重(密度) :
1.24 g/mL at 20 °C
蒸気圧:
0Pa at 25℃
酸解離定数(Pka):
0.70±0.10(Predicted)
水溶解度 :
550g/L at 20℃
LogP:
-4 at 20℃
EPAの化学物質情報:
[[(Phosphonomethyl)imino]bis[6,1-hexanediylnitrilobis(methylene)]]tetrakisphosphonic acid (34690-00-1)
安全性情報
  • リスクと安全性に関する声明
  • 危険有害性情報のコード(GHS)
主な危険性  C
Rフレーズ  34
Sフレーズ  26-36/37/39-45
RIDADR  UN 3265 8/PG 3
WGK Germany  -
絵表示(GHS) GHS hazard pictograms
注意喚起語
危険有害性情報
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H290 金属腐食のおそれ 金属腐食性物質 1 警告 GHS hazard pictograms P234, P390, P404
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H318 重篤な眼の損傷 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 1 危険 GHS hazard pictograms P280, P305+P351+P338, P310
注意書き
P234 他の容器に移し替えないこと。
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P302+P352 皮膚に付着した場合:多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P310 ただちに医師に連絡すること。
P321 特別な処置が必要である(このラベルの... を見よ)。
P332+P313 皮膚刺激が生じた場合:医師の診断/手当てを受けるこ と。
P362 汚染された衣類を脱ぎ、再使用す場合には洗濯をすること。
P390 物的被害を防止するためにも流出したものを吸収 すること。
P404 密閉容器に保管すること。

[[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸 価格

メーカー 製品番号 製品説明 CAS番号 包装 価格 更新時間 購入

[[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸 化学特性,用途語,生産方法

[[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸 上流と下流の製品情報

原材料

準備製品


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+86-0551-65418679 +86-18949832763
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Jinan Finer Chemical Co., Ltd
+86-531-88989536 +86-15508631887
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34690-00-1([[(ホスホノメチル)イミノ]ビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸)キーワード:


  • 34690-00-1
  • Partially neutralized sodium salt of bis hexamethylene triamine penta (methylene phosphonic acid) BHMTPHPN(Nax)
  • BHMTPh.PN(Nax)
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  • Partially neutralized sodium salt of bis hexamethylene triamine penta (methylene phosphonic acid)
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  • Phosphonic acid, P,P',P'',P'''-[[(phosphonomethyl)imino]bis[6,1-hexanediylnitrilobis(methylene)]]tetrakis-, sodium salt (1:?)
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  • Phosphonic acid, [[(phosphonomethyl)imino] bis[6,1-hexanediylnitrilobis(methylene)]]tetrakis -, sodium salt
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  • [bis[6-[bis(phosphonomethyl)amino]hexyl]amino]methylphosphonic acid
  • Phosphonic acid,P,P',P'',P'''-[[(phosphonomethyl)imino]bis[6,1-hexanediylnitrilobis(methylene)]]tetrakis-
  • bis[6-[bis(phosphonomethyl)amino]hexyl]amino]methylphosphonicaci
  • ホスホノメチルイミノビス(6,1-ヘキサンジイルニトリロ)テトラキスメチレンテトラキスホスホン酸
  • N,N-ビス[6-[ビス(ホスホノメチル)アミノ]ヘキシル]ホスホノメタンアミン
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