ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
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- CAS番号.
- 1070-89-9
- 化学名:
- ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
- 别名:
- ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L);ソジオジ(トリメチルシリル)アミン;[ビス(トリメチルシリル)アミノ]ナトリウム;ソジオイミノビス(トリメチルシラン);N-(トリメチルシリル)-N-ソジオトリメチルシリルアミン;α,α,α-トリメチル-N-ソジオ-N-(トリメチルシリル)シランアミン;ビス(トリメチルシリル)ソジオアミン;1,1,1,3,3,3-ヘキサメチル-2-ソジオプロパンジシラザン;3-ソジオ-2,2,4,4-テトラメチル-3-アザ-2,4-ジシラペンタン;[ジ(トリメチルシリル)アミノ]ナトリウム;(ソジオイミノ)ビス(トリメチルシラン);ビス(トリメチルシリル)アミノナトリウム;ソジオビス(トリメチルシリル)アミン;N-ソジオビス(トリメチルシリル)アミン;ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド;ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド,テトラヒドロフラン溶液;ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L);ナトリウムヘキサメチルジシラジド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L);ヘキサメチルジシラザンナトリウム;ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 1M IN THF
- 英語名:
- Sodium bis(trimethylsilyl)amide
- 英語别名:
- NAHMDS;SODIUM HEXAMETHYLDISILAZANE;SODIUM HEXAMETHYLDISILAZIDE;Sodium Bis(trimethylsilyl)amide, 1M THF;HMDS Na;N-SODIOHEXAMETHYLDISILAZANE;Sodiobis(trimethylsilyl)amine;sodium bis(trimethylsilyl)amide solution;HMN NA SALT;sodiumbis(tri
- CBNumber:
- CB8382263
- 化学式:
- C6H18NNaSi2
- 分子量:
- 183.37
- MOL File:
- 1070-89-9.mol
- MSDS File:
- SDS
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ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L) 物理性質
- 融点 :
- 171-175 °C (lit.)
- 沸点 :
- 67°C
- 比重(密度) :
- 0.904 g/mL at 25 °C
- 闪点 :
- 43 °F
- 貯蔵温度 :
- 2-8°C
- 溶解性:
- ヘキサン、トルエン、エーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエンに可溶。
- 外見 :
- 液体
- 比重:
- 0.9
- 色:
- クリアオレンジ～ブラウン
- 水溶解度 :
- 反応する
- Hydrolytic Sensitivity:
- 8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
- Sensitive :
- Moisture Sensitive
- BRN :
- 3629917
- 暴露限界値:
- ACGIH: TWA 50 ppm; STEL 100 ppm (Skin)
OSHA: TWA 200 ppm(590 mg/m3)
NIOSH: IDLH 2000 ppm; TWA 200 ppm(590 mg/m3); STEL 250 ppm(735 mg/m3)
- CAS データベース:
- 1070-89-9(CAS DataBase Reference)
- EPAの化学物質情報:
- Silanamine, 1,1,1-trimethyl-N-(trimethylsilyl)-, sodium salt (1070-89-9)
安全性情報
- リスクと安全性に関する声明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
| 絵表示（GHS） |
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| 注意喚起語 |
危険 |
| 危険有害性情報 |
| コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
区分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
| H314 |
重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷 |
皮膚腐食性/刺激性 |
1A, B, C |
危険 |
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P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501 |
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| 注意書き |
| P260 |
粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーを吸入しないこ と。 |
| P280 |
保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。 |
| P303+P361+P353 |
皮膚（または髪）に付着した場合：直ちに汚染された衣 類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。 |
| P305+P351+P338 |
眼に入った場合：水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。 |
| P363 |
汚染された衣類を再使用す場合には洗濯をすること。 |
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ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L) 価格
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| メーカー |
製品番号 |
製品説明 |
CAS番号 |
包装 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
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富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
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W01SRM11-1500 |
ヘキサメチルジシラザンナトリウム
Sodium Hexamethyldisilazane |
1070-89-9 |
25g |
￥70100 |
2024-03-01 |
購入 |
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富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
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W01AFAL13352 |
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 2M soln. in THF
Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M soln. in THF |
1070-89-9 |
100mL |
￥23820 |
2024-03-01 |
購入 |
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東京化成工業
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H0894 |
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
Sodium Bis(trimethylsilyl)amide (contains 2-Methyl-2-butene) (38% in Tetrahydrofuran, ca. 1.9mol/L)
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1070-89-9 |
100mL |
￥8000 |
2023-06-01 |
購入 |
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東京化成工業
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H0894 |
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
Sodium Bis(trimethylsilyl)amide (contains 2-Methyl-2-butene) (38% in Tetrahydrofuran, ca. 1.9mol/L)
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1070-89-9 |
500mL |
￥28800 |
2023-06-01 |
購入 |
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関東化学株式会社(KANTO)
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21596-2A |
ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド >95.0%
Sodium bis(trimethylsilyl)amide >95.0% |
1070-89-9 |
5g |
￥9400 |
2024-03-01 |
購入 |
ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L) 化学特性,用途語,生産方法
外観
白色～淡黄色、結晶性粉末～粉末
使用上の注意
アルゴン封入
化学的特性
Slightly yellow to light beige crystalline powder
物理的性質
mp 171–175 °C; bp 170 °C/2 mmHg.
使用
Sodium bis(trimethylsilyl)amide is a synthetically useful reagent in that it combines both high basicity and nucleophilicity, each of which may be exploited for useful organic transformations such as selective formation of enolates, preparation of Wittig reagents, formation of acyl anion equivalents, and the generation of carbenoid species. As a nucleophile, it has been used as a nitrogen source for the preparation of primary amines.It is useful as a sterically hindered base and as a nucleophile.
一般的な説明
Sodium bis(trimethylsilyl)amide solution (NaHMDS) is widely used as a strong base in organic synthesis for deprotonation reactions and base-catalyzed reactions. It is also involved in the generation of enolates, Wittig reagents and carbenes.
純化方法
It can be sublimed at 170o/2mm (bath temperature 220-250o) onto a cold finger, and can be recrystallised from *C6H6 (its solubility is: 10g in 100mL at 60o). It is slightly soluble in Et2O and is decomposed by H2O. [Wannagat & Niederprüm Chem Ber 94 1540 1961.]It is available commercially under N2 in Sure/Seal bottles in tetrahydrofuran (various concentrations) and at ~0.6M in toluene. [Beilstein 4 IV 4014.]
ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L) 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L) 生産企業
Global( 401)Suppliers
ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L) スペクトルデータ(IR1、IR2、Raman)
1070-89-9(ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L))キーワード:
- 1070-89-9
- N-SODIUMHEXAMETHYLDISILAZANE
- HEXAMETHYLDISILAZANE SODIUM SALT
- HMN NA SALT
- 1,1,1,3,3,3-HEXAMETHYLDISILAZANE SODIUM SALT
- SODIUM BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE, ~1 M IN THF
- SODIUM BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE SOL., ~0 .6 M IN TOLUENE
- SODIUM BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE, 1.0M SO LUTION IN TETRAHYDROFURAN
- SODIUM BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE, 0.6M SO LUTION IN TOLUENE
- Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M solution in THF, pure
- Sodium bis(trimethylsilyl)amide, pure, 95+%
- N-Sodiumhexamethyldisilazane(Sodiumbistrimethylsilylamide)
- Hexamethyldisilazanesodiumsalt35%THF:cumene3:1
- SODIUM bis-(TRIMETHYLSILYL)AMIDE, 0.6 M in TOLUENE
- SODIUM BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE, 95+%, PURE
- Sodium hexamethyldisilazane, min. 95%
- Sodium bis(trimethylsilyl)amide, pure
- Sodium bis(trimethylsilyl)amide2M solution in THFAcroSeal§3pure
- sodium bis(trimethylsilyl)amide 2M in tetrahydrofuran 38-42 wgt%
- [Bis(trimethylsilyl)amino] sodium
- [Di(trimethylsilyl)amino] sodium
- 1,1,1,3,3,3-Hexamethyl-2-sodiopropanedisilazane
- Bis(trimethylsilyl)aminosodium
- α,α,α-Trimethyl-N-sodio-N-(trimethylsilyl)silanamine
- Sodium Hexamethyldisilazide,NaHMDS
- Sodium bis(trimethylsilyl)amide,pure,2M solution in THF
- SODIUM BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE SOL., ~2 M IN THF
- Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M solution in THF, AcroSeal?, pure
- Sodium Hexamethyldisilazide Sodium Hexamethyldisilazane,Sodium bis(trimethylsilyl)amide
- Sodium Bis(trimethylsilyl)amide, 1M/2M in THF
- Sodium bis (trimethylsilyl) amide 2M in THF
- ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
- ソジオジ(トリメチルシリル)アミン
- [ビス(トリメチルシリル)アミノ]ナトリウム
- ソジオイミノビス(トリメチルシラン)
- N-(トリメチルシリル)-N-ソジオトリメチルシリルアミン
- α,α,α-トリメチル-N-ソジオ-N-(トリメチルシリル)シランアミン
- ビス(トリメチルシリル)ソジオアミン
- 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチル-2-ソジオプロパンジシラザン
- 3-ソジオ-2,2,4,4-テトラメチル-3-アザ-2,4-ジシラペンタン
- [ジ(トリメチルシリル)アミノ]ナトリウム
- (ソジオイミノ)ビス(トリメチルシラン)
- ビス(トリメチルシリル)アミノナトリウム
- ソジオビス(トリメチルシリル)アミン
- N-ソジオビス(トリメチルシリル)アミン
- ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド
- ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド,テトラヒドロフラン溶液
- ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
- ナトリウムヘキサメチルジシラジド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
- ヘキサメチルジシラザンナトリウム
- ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 1M IN THF
- ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 2M SOLN. IN THF
- ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 2M IN THF
- ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液
- ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 98%
- ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 2M in THF
- 典型金属化合物
- 構造分類
- 金属別化合物
- 有機合成化学
- Si-N化合物
- ケイ素化合物
- ケイ素化合物 (合成用)
- シラザン
- ナトリウム化合物 (単純なナトリウム塩を除く)