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碳化硅溅射靶

碳化硅溅射靶, , 结构式
碳化硅溅射靶
CAS号:
英文名:
SILICON CARBIDE SPUTTERING TARGET, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THICK, 99.5% (METALS BASIS)
英文别名:
SILICON CARBIDE SPUTTERING TARGET, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THICK, 99.5% (METALS BASIS)
中文名:
碳化硅溅射靶
中文别名:
碳化硅溅射靶
CBNumber:
CB1660175
分子式:
分子量:
0
MOL File:
Mol file

碳化硅溅射靶化学性质

安全信息

碳化硅溅射靶性质、用途与生产工艺

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