Diethylsilan

DIETHYLSILANE Struktur
542-91-6
CAS-Nr.
542-91-6
Bezeichnung:
Diethylsilan
Englisch Name:
DIETHYLSILANE
Synonyma:
(C2H5)2SiH2;3-Silapentane;diethyl-silan;DIETHYLSILANE;diethylsilicon;Silane, diethyl-;Diethylsilane,97%;Diethylsilane,98+%;Diethylsilanealso high purity;Diethylsilane,highpuritymin99%
CBNumber:
CB8680635
Summenformel:
C4H12Si
Molgewicht:
88.22
MOL-Datei:
542-91-6.mol

Diethylsilan Eigenschaften

Schmelzpunkt:
-132°C
Siedepunkt:
56 °C (lit.)
Dichte
0.681 g/mL at 25 °C (lit.)
Brechungsindex
n20/D 1.391(lit.)
Flammpunkt:
−20 °F
storage temp. 
under inert gas (nitrogen or Argon) at 2-8°C
Löslichkeit
Miscible with terahydrofuran, diethyl ether, 1,4-dioxane and benzene.
Aggregatzustand
liquid
Wichte
0.683
Sensitive 
Air Sensitive
Hydrolytic Sensitivity
3: reacts with aqueous base
Merck 
14,3128
BRN 
1730902
CAS Datenbank
542-91-6(CAS DataBase Reference)
EPA chemische Informationen
Silane, diethyl- (542-91-6)
Sicherheit
  • Risiko- und Sicherheitserklärung
  • Gefahreninformationscode (GHS)
Kennzeichnung gefährlicher F
R-Sätze: 11
S-Sätze: 16-23-24/25
RIDADR  UN 1993 3/PG 2
WGK Germany  1
TSCA  Yes
HazardClass  3
PackingGroup  II
Bildanzeige (GHS) GHS hazard pictograms
Alarmwort Achtung
Gefahrenhinweise
Code Gefahrenhinweise Gefahrenklasse Abteilung Alarmwort Symbol P-Code
H225 Flüssigkeit und Dampf leicht entzündbar. Entzündbare Flüssigkeiten Kategorie 2 Achtung GHS hazard pictogramssrc="/GHS02.jpg" width="20" height="20" /> P210,P233, P240, P241, P242, P243,P280, P303+ P361+P353, P370+P378,P403+P235, P501
Sicherheit
P210 Von Hitze, heißen Oberflächen, Funken, offenen Flammen und anderen Zündquellenarten fernhalten. Nicht rauchen.

Diethylsilan Chemische Eigenschaften,Einsatz,Produktion Methoden

R-Sätze Betriebsanweisung:

R11:Leichtentzündlich.

S-Sätze Betriebsanweisung:

S16:Von Zündquellen fernhalten - Nicht rauchen.
S23:Gas/Rauch/Dampf/Aerosol nicht einatmen(geeignete Bezeichnung(en) vom Hersteller anzugeben).
S24/25:Berührung mit den Augen und der Haut vermeiden.

Verwenden

Diethylsilane is used as a precursor to prepare (3-allylsulfanyl-propyl)-diethyl-silane by using (Ph3P)3RhCl as reagent. It is also used in the chemical vapor deposition of SiO2 for microelectronics.

Diethylsilan Upstream-Materialien And Downstream Produkte

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