四フッ化ハフニウム
四フッ化ハフニウム 物理性質
- 融点 :
- 310°C (subl.)
- 沸点 :
- 970°C
- 比重(密度) :
- 7.100
- 溶解性:
- reacts with H2O
- 外見 :
- 粉
- 色:
- 白い
- 水溶解度 :
- 水と反応します。
- Sensitive :
- Moisture Sensitive
- 暴露限界値:
- ACGIH: TWA 2.5 mg/m3; TWA 0.5 mg/m3
NIOSH: IDLH 250 mg/m3; IDLH 50 mg/m3; TWA 0.5 mg/m3
- CAS データベース:
- 13709-52-9(CAS DataBase Reference)
安全性情報
- リスクと安全性に関する声明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
絵表示(GHS) |
|
注意喚起語 |
危険 |
危険有害性情報 |
コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
区分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
H315 |
皮膚刺激 |
皮膚腐食性/刺激性 |
2 |
警告 |
|
P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362 |
H318 |
重篤な眼の損傷 |
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 |
1 |
危険 |
|
P280, P305+P351+P338, P310 |
H331 |
吸入すると有毒 |
急性毒性、吸入 |
3 |
危険 |
|
P261, P271, P304+P340, P311, P321,P403+P233, P405, P501 |
H335 |
呼吸器への刺激のおそれ |
特定標的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 |
3 |
警告 |
|
|
|
注意書き |
P280 |
保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。 |
P302+P352 |
皮膚に付着した場合:多量の水と石鹸で洗うこと。 |
|
四フッ化ハフニウム 価格
もっと(2)
メーカー |
製品番号 |
製品説明 |
CAS番号 |
包装 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01FLC006500 |
四ふっ化ハフニウム
Hafnium Tetrafluoride |
13709-52-9 |
25g |
¥106300 |
2021-03-23 |
購入 |
Sigma-Aldrich Japan
|
399868 |
フッ化ハフニウム(IV) 99.9% trace metals basis (purity excludes up to ~1% zirconium)
Hafnium(IV) fluoride 99.9% trace metals basis (purity excludes up to ~1% zirconium) |
13709-52-9 |
25g |
¥46500 |
2021-03-23 |
購入 |
四フッ化ハフニウム 化学特性,用途語,生産方法
化学的特性
Off-white powder
物理的性質
White monoclinic crystals; refractive index 1.56; density 7.1 g/cm
3; sublimes at 970°C.
使用
Hafnium(IV) fluoride is used as Vacuum deposition.
調製方法
Hafnium tetrafluoride is prepared by careful thermal
decomposition of ammonium fluorohafniate in an oxygen-
free atmosphere or by passing anhydrous hydrogen
fluoride over hafnium tetrachloride at 300℃. Direct synthesis
from the elements is incomplete because the product
merely forms a film on the metal. Ammonium fluorohafniate
can be prepared by crystallization from an aqueous
hydrofluoric acid solution by adding ammonium
fluoride.
四フッ化ハフニウム 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
四フッ化ハフニウム 生産企業
Global( 88)Suppliers
13709-52-9(四フッ化ハフニウム)キーワード:
- 13709-52-9
- Hafnium(IV) fluoride, 99.9% trace metals basis excluding Zr
- HAFNIUM FLUORIDE
- HAFNIUM(IV) FLUORIDE
- HAFNIUM TETRAFLUORIDE
- HAFNIUM TETRAFLUORIDE 99%
- HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%
- Hafnium tetrafluoride 99.9%
- Hafnium(IV) fluoride, 99.9% (metals basis excluding Zr), Zr 2-4%
- HAFNIUM (IV) FLUORIDE 99.9% (METALS)
- Hafnium(IV) fluoride, 99.9% (metals basis)
- Hafnium(IV) fluoride,98%
- Hafnium fluoride/ 99.9%
- HafniuM(IV) fluoride, 98% 5GR
- hafnium(4+):tetrafluoride
- HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%
- Hafnium fluoride (HfF4), (T-4)-
- Gadolinium Oxide (Gd2O3) Sputtering Targets
- ふっ化ハフニウム
- 四フッ化ハフニウム
- フッ化ハフニウム(IV)
- テトラフルオロハフニウム
- ハフニウムテトラフルオリド