四フッ化ハフニウム

四フッ化ハフニウム 化学構造式
13709-52-9
CAS番号.
13709-52-9
化学名:
四フッ化ハフニウム
别名:
ふっ化ハフニウム;四フッ化ハフニウム;フッ化ハフニウム(IV);テトラフルオロハフニウム;ハフニウムテトラフルオリド
英語名:
HAFNIUM FLUORIDE
英語别名:
HAFNIUM FLUORIDE;HAFNIUM(IV) FLUORIDE;HAFNIUM TETRAFLUORIDE;Hafnium fluoride/ 99.9%;Hafnium(IV) fluoride,98%;HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%;HAFNIUM TETRAFLUORIDE 99%;hafnium(4+):tetrafluoride;Hafnium tetrafluoride 99.9%;HafniuM(IV) fluoride, 98% 5GR
CBNumber:
CB2756332
化学式:
F4Hf
分子量:
254.48
MOL File:
13709-52-9.mol
MSDS File:
SDS

四フッ化ハフニウム 物理性質

融点 :
310°C (subl.)
沸点 :
970°C
比重(密度) :
7.100
溶解性:
reacts with H2O
外見 :
色:
白い
水溶解度 :
水と反応します。
Sensitive :
Moisture Sensitive
暴露限界値:
ACGIH: TWA 2.5 mg/m3; TWA 0.5 mg/m3
NIOSH: IDLH 250 mg/m3; IDLH 50 mg/m3; TWA 0.5 mg/m3
CAS データベース:
13709-52-9(CAS DataBase Reference)
安全性情報
  • リスクと安全性に関する声明
  • 危険有害性情報のコード(GHS)
主な危険性  Xi,T
Rフレーズ  32-36/37/38-41-23-37/38
Sフレーズ  26-36-45-36/37/39
RIDADR  UN 2923 8/PG 2
WGK Germany  3
Hazard Note  Irritant
TSCA  Yes
国連危険物分類  6.1
容器等級  II
HSコード  28261990
絵表示(GHS) GHS hazard pictogramsGHS hazard pictograms
注意喚起語 危険
危険有害性情報
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H318 重篤な眼の損傷 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 1 危険 GHS hazard pictograms P280, P305+P351+P338, P310
H331 吸入すると有毒 急性毒性、吸入 3 危険 GHS hazard pictograms P261, P271, P304+P340, P311, P321,P403+P233, P405, P501
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
注意書き
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P302+P352 皮膚に付着した場合:多量の水と石鹸で洗うこと。

四フッ化ハフニウム 価格 もっと(2)

メーカー 製品番号 製品説明 CAS番号 包装 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01FLC006500 四ふっ化ハフニウム
Hafnium Tetrafluoride
13709-52-9 25g ¥106300 2021-03-23 購入
Sigma-Aldrich Japan 399868 フッ化ハフニウム(IV) 99.9% trace metals basis (purity excludes up to ~1% zirconium)
Hafnium(IV) fluoride 99.9% trace metals basis (purity excludes up to ~1% zirconium)
13709-52-9 25g ¥46500 2021-03-23 購入

四フッ化ハフニウム 化学特性,用途語,生産方法

化学的特性

Off-white powder

物理的性質

White monoclinic crystals; refractive index 1.56; density 7.1 g/cm3; sublimes at 970°C.

使用

Hafnium(IV) fluoride is used as Vacuum deposition.

調製方法

Hafnium tetrafluoride is prepared by careful thermal decomposition of ammonium fluorohafniate in an oxygen- free atmosphere or by passing anhydrous hydrogen fluoride over hafnium tetrachloride at 300℃. Direct synthesis from the elements is incomplete because the product merely forms a film on the metal. Ammonium fluorohafniate can be prepared by crystallization from an aqueous hydrofluoric acid solution by adding ammonium fluoride.

四フッ化ハフニウム 上流と下流の製品情報

原材料

準備製品


四フッ化ハフニウム 生産企業

Global( 88)Suppliers
名前 電話番号 電子メール 国籍 製品カタログ 優位度
Hubei Jusheng Technology Co.,Ltd.
18871490254
linda@hubeijusheng.com CHINA 28180 58
Hubei xin bonus chemical co. LTD
86-13657291602
linda@hubeijusheng.com CHINA 22968 58
Chongqing Chemdad Co., Ltd
+86-023-61398051 +8613650506873
sales@chemdad.com China 39916 58
Alfa Chemistry
+1-5166625404
Info@alfa-chemistry.com United States 21317 58
Shaanxi Didu New Materials Co. Ltd
+86-89586680 +86-13289823923
1026@dideu.com China 9116 58
GIHI CHEMICALS CO.,LIMITED
+8618058761490
info@gihichemicals.com China 49999 58
Shanghai Acmec Biochemical Technology Co., Ltd.
+undefined18621343501
product@acmec-e.com China 33349 58
Aladdin Scientific
+1-833-552-7181
sales@aladdinsci.com United States 57511 58
Mainchem Co., Ltd. +86-0592-6210733
sale@mainchem.com China 32360 55
J & K SCIENTIFIC LTD. 010-82848833 400-666-7788
jkinfo@jkchemical.com China 96815 76

13709-52-9(四フッ化ハフニウム)キーワード:


  • 13709-52-9
  • Hafnium(IV) fluoride, 99.9% trace metals basis excluding Zr
  • HAFNIUM FLUORIDE
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  • HAFNIUM TETRAFLUORIDE
  • HAFNIUM TETRAFLUORIDE 99%
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  • Hafnium tetrafluoride 99.9%
  • Hafnium(IV) fluoride, 99.9% (metals basis excluding Zr), Zr 2-4%
  • HAFNIUM (IV) FLUORIDE 99.9% (METALS)
  • Hafnium(IV) fluoride, 99.9% (metals basis)
  • Hafnium(IV) fluoride,98%
  • Hafnium fluoride/ 99.9%
  • HafniuM(IV) fluoride, 98% 5GR
  • hafnium(4+):tetrafluoride
  • HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%HAFNIUM FLUORIDE, 99.99%
  • Hafnium fluoride (HfF4), (T-4)-
  • Gadolinium Oxide (Gd2O3) Sputtering Targets
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  • テトラフルオロハフニウム
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