ヘキシルホスホン酸

ヘキシルホスホン酸 化学構造式
4721-24-8
CAS番号.
4721-24-8
化学名:
ヘキシルホスホン酸
别名:
ヘキシルホスホン酸;n-ヘキシルホスホン酸;n-ヘキシルホスホン酸, min. 97% HPA
英語名:
N-HEXYLPHOSPHONIC ACID
英語别名:
NSC 222656;Hexanephosphonic acid;LABOTEST-BB LT00408920;N-HEXYLPHOSPHONIC ACID;1-Hexylphosphonic acid;Hexylphosphonic acid 95%;Phosphonic acid, P-hexyl-;n-Hexylphosphonicacid,min.97%;n-Hexylphosphonic acid, ,min. 97%;n-Hexylphosphonic acid, min. 97% HPA
CBNumber:
CB5116852
化学式:
C6H15O3P
分子量:
166.16
MOL File:
4721-24-8.mol
MSDS File:
SDS

ヘキシルホスホン酸 物理性質

融点 :
108-110°C
沸点 :
299.7±23.0 °C(Predicted)
比重(密度) :
1.132±0.06 g/cm3(Predicted)
溶解性:
soluble in Methanol
酸解離定数(Pka):
2.66±0.10(Predicted)
外見 :
色:
ホワイトからオフホワイト
水溶解度 :
水に不溶。
Hydrolytic Sensitivity:
4: no reaction with water under neutral conditions
安全性情報
  • リスクと安全性に関する声明
  • 危険有害性情報のコード(GHS)
RIDADR  3261
WGK Germany  3
HSコード  2931.39.0030
国連危険物分類  8
容器等級  III
化審法 (2)-1995
絵表示(GHS) GHS hazard pictograms
注意喚起語 警告
危険有害性情報
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
注意書き
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P302+P352 皮膚に付着した場合:多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P332+P313 皮膚刺激が生じた場合:医師の診断/手当てを受けるこ と。
P337+P313 眼の刺激が続く場合:医師の診断/手当てを受けること。

ヘキシルホスホン酸 価格 もっと(8)

メーカー 製品番号 製品説明 CAS番号 包装 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF044121 n-ヘキシルホスホン酸
n-Hexylphosphonic acid
4721-24-8 2g ¥46700 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF044121 n-ヘキシルホスホン酸
n-Hexylphosphonic acid
4721-24-8 10g ¥169100 2024-03-01 購入
東京化成工業 H1551 ヘキシルホスホン酸 >98.0%(T)
Hexylphosphonic Acid >98.0%(T)
4721-24-8 1g ¥6300 2024-03-01 購入
東京化成工業 H1551 ヘキシルホスホン酸 >98.0%(T)
Hexylphosphonic Acid >98.0%(T)
4721-24-8 5g ¥21900 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 750034 95%
Hexylphosphonic acid 95%
4721-24-8 1g ¥7630 2024-03-01 購入

ヘキシルホスホン酸 化学特性,用途語,生産方法

外観

白色~ほとんど白色粉末~結晶

使用

n-Hexylphosphonic acid is used in the manufacturing of nanoparticles such as quantum dots, nano-metals and nano-ceramics. It is also used for coating of many materials, including nanoparticles by condensed hydrophobic monolayers.

一般的な説明

Hexylphosphonic acid(HPA) is a phosphonic acid derivative that can be used as a capping agent and a surfactant.

ヘキシルホスホン酸 上流と下流の製品情報

原材料

準備製品


ヘキシルホスホン酸 生産企業

Global( 91)Suppliers
名前 電話番号 電子メール 国籍 製品カタログ 優位度
Hebei Mojin Biotechnology Co., Ltd
+8613288715578
sales@hbmojin.com China 12456 58
Henan Tianfu Chemical Co.,Ltd.
+86-0371-55170693 +86-19937530512
info@tianfuchem.com China 21691 55
Hefei TNJ Chemical Industry Co.,Ltd.
+86-0551-65418679 +86-18949832763
info@tnjchem.com China 2989 55
Hebei Guanlang Biotechnology Co., Ltd.
+86-19930503282
alice@crovellbio.com China 8823 58
BOC Sciences
+1-631-485-4226
inquiry@bocsci.com United States 19553 58
Shaanxi Dideu Medichem Co. Ltd
18192627656
1012@dideu.com China 3422 58
Hefei TNJ Chemical Industry Co.,Ltd.
0551-65418671
sales@tnjchem.com China 34572 58
ANHUI WITOP BIOTECH CO., LTD
+8615255079626
eric@witopchemical.com China 23556 58
AFINE CHEMICALS LIMITED
0571-85134551
info@afinechem.com CHINA 15377 58
CD Chemical Group Limited
+8615986615575
info@codchem.com China 20356 58

4721-24-8(ヘキシルホスホン酸)キーワード:


  • 4721-24-8
  • n-Hexylphosphonic acid SynonyMs Hexanephosphonic acid
  • Hexanephosphonic acid
  • NSC 222656
  • Hexylphosphonic acid 95%
  • Phosphonic acid, P-hexyl-
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  • TIANFU-CHEM_Phosphonic acid, P-hexyl- 4721-24-8
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