テトラキス(エチルメチルアミド)ハフニウム(IV)
テトラキス(エチルメチルアミド)ハフニウム(IV) 物理性質
- 融点 :
- <-50 °C
- 沸点 :
- 79 °C0.1 mm Hg(lit.)
- 比重(密度) :
- 1.324 g/mL at 25 °C(lit.)
- 闪点 :
- 52 °F
- 貯蔵温度 :
- 2-8°C
- 外見 :
- 液体
- 色:
- 無色～黄色
- 比重:
- 1.324
- Hydrolytic Sensitivity:
- 9: reacts extremely rapidly with atmospheric moisture - may be pyrophoric - glove box or sealed system required
- Sensitive :
- Air & Moisture Sensitive
- EPAの化学物質情報:
- Ethanamine, N-methyl-, hafnium(4+) salt (4:1) (352535-01-4)
安全性情報
- リスクと安全性に関する声明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
| 絵表示（GHS） |
|
| 注意喚起語 |
危険 |
| 危険有害性情報 |
| コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
区分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
| H225 |
引火性の高い液体および蒸気 |
引火性液体 |
2 |
危険 |
|
P210,P233, P240, P241, P242, P243,P280, P303+ P361+P353, P370+P378,P403+P235, P501 |
| H260 |
水に触れると自然発火するおそれのある可燃性 /引火性ガスを発生 |
水反応可燃性化学品 |
1 |
危険 |
|
P223, P231+P232, P280, P335+ P334,P370+P378, P402+P404, P501 |
|
| 注意書き |
| P210 |
熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。－禁煙。 |
| P223 |
激しい反応と火災の発生の危険があるため、水と接 触させないこと。 |
| P231+P232 |
湿気を遮断し、不活性ガス下で取り扱うこと。 |
| P233 |
容器を密閉しておくこと。 |
| P240 |
容器を接地すること/アースをとること。 |
| P241 |
防爆型の電気機器/換気装置/照明機器/．．．機器を使 用すること。 |
|
テトラキス(エチルメチルアミド)ハフニウム(IV) 価格
もっと(3)
| メーカー |
製品番号 |
製品説明 |
CAS番号 |
包装 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
|
Sigma-Aldrich Japan
|
553123 |
テトラキス(エチルメチルアミド)ハフニウム(IV) ≥99.99% trace metals basis
Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) ≥99.99% trace metals basis |
352535-01-4 |
5ml |
￥47800 |
2024-03-01 |
購入 |
|
Sigma-Aldrich Japan
|
553123 |
テトラキス(エチルメチルアミド)ハフニウム(IV) ≥99.99% trace metals basis
Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) ≥99.99% trace metals basis |
352535-01-4 |
25ml |
￥129000 |
2024-03-01 |
購入 |
|
Sigma-Aldrich Japan
|
725544 |
テトラキス(エチルメチルアミド)ハフニウム(IV) packaged for use in deposition systems
Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) packaged for use in deposition systems |
352535-01-4 |
10g |
￥174000 |
2024-03-01 |
購入 |
テトラキス(エチルメチルアミド)ハフニウム(IV) 生産企業
Global( 70)Suppliers
352535-01-4(テトラキス(エチルメチルアミド)ハフニウム(IV))キーワード:
- 352535-01-4
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium, 99% (99.99+%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium, 99% (99.99+%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM, packed in 50 ml Swagelok cylinder for CVD/ALD
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium 99.999%
- Tetrakis(ethylMethylaMino)hafniuM, 99% (99.99+%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM, 72-7720, contained in 50 Ml Swagelok cylinder (96-1070) for CVD/ALD
- Tetrakis(ethylMethylaMido)hafniuM(IV) >=99.99% trace Metals basis
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium, 99% (99.99+%-Hf, <0.15% Zr) TEMAH
- TETRAKIS(ETHYLMETHYLAMINO)HAFNIUM
- Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV), 99.99+%
- temah
- tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(iv)
- N-Methylethanamine, hafnium(4+) salt
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium(IV), 99%
- HAFNIUM TETRAKIS(ETHYLMETHYLAMIDE)
- TEMAH, Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium(IV)
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium, 99% (99.99+%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM, 72-7720, contained in 50 ml Swagelok cylinder for CVD/ALD
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium, 99% (99.99+%-Hf, <0.15% Zr) TEMAH, PURATREM, 72-7720, contained in 50 ml Swagelok cylinder (96-1070) for CVD/ALD
- ethyl(methyl)azanide,hafnium(4+)
- 0.15% Zr) TEMAH PURATREM
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium, 99% (99.99+%-Hf, <
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium TDMAH
- TETRAKIS(ETHYLMETHYLAMINO)HAFNIUM ISO 9001：2015 REACH
- HAFNIUM TETRAKIS(ETHYLMETHYLAMIDE), 99+%
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium, 99% (99.99+%-Hf, <0.15% Zr) TEMAH PURATREM
- Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium, 99% (99.99+%-Hf, <0.15% Zr) TEMAH, PURATREM, 72-7720, contained in 50 ml Swagelok(R) cylinder (96-1070) for CVD/ALD
- TEMAH: Hf[N(CH3)(CH2CH3)]4
- TETRAKIS(ETHYLMETHYLAMINO)HAFNIUM, TEMAH PURATREM
- Tetrakis(methylethylamino)hafnium
- テトラキス(エチルメチルアミド)ハフニウム(IV)