トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド
トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド 物理性質
- 比重(密度) :
- 1.07 g/mL at 20 °C(lit.)
- 闪点 :
- 52 °C
- 外見 :
- 液体
- 色:
- 無色
- ECW:
- 4.4 V
安全性情報
- リスクと安全性に関する声明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
| 絵表示（GHS） |
 
|
| 注意喚起語 |
危険 |
| 危険有害性情報 |
| コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
区分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
| H226 |
引火性の液体および蒸気 |
引火性液体 |
3 |
警告 |
|
|
| H314 |
重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷 |
皮膚腐食性/刺激性 |
1A, B, C |
危険 |
|
P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501 |
|
| 注意書き |
| P210 |
熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。－禁煙。 |
| P233 |
容器を密閉しておくこと。 |
| P240 |
容器を接地すること/アースをとること。 |
| P280 |
保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。 |
| P303+P361+P353 |
皮膚（または髪）に付着した場合：直ちに汚染された衣 類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。 |
| P305+P351+P338 |
眼に入った場合：水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。 |
|
トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド 価格
もっと(8)
| メーカー |
製品番号 |
製品説明 |
CAS番号 |
包装 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
|
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01SRM15-6370 |
Trihexyl(tetradecyl)phosphonium bis(trifluoromethanesulfonyl)amide, min. 97% CYPHOS® IL 109
Trihexyl(tetradecyl)phosphonium bis(trifluoromethanesulfonyl)amide, min. 97% CYPHOS? IL 109 |
460092-03-9 |
10g |
￥30500 |
2024-03-01 |
購入 |
|
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01SRM15-6370 |
Trihexyl(tetradecyl)phosphonium bis(trifluoromethanesulfonyl)amide, min. 97% CYPHOS® IL 109
Trihexyl(tetradecyl)phosphonium bis(trifluoromethanesulfonyl)amide, min. 97% CYPHOS? IL 109 |
460092-03-9 |
50g |
￥121700 |
2024-03-01 |
購入 |
|
関東化学株式会社(KANTO)
|
49520-25 |
トリヘキシル（テトラデシル）ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド >98.0%
Trihexyl(tetradecyl)phosphonium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide >98.0% |
460092-03-9 |
100g |
￥40000 |
2024-03-01 |
購入 |
|
関東化学株式会社(KANTO)
|
49520-24 |
トリヘキシル（テトラデシル）ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド >98.0%
Trihexyl(tetradecyl)phosphonium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide >98.0% |
460092-03-9 |
25g |
￥16500 |
2024-03-01 |
購入 |
|
Sigma-Aldrich Japan
|
50971 |
トリヘキシルテトラデシルホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド ≥95.0%
Trihexyltetradecylphosphonium bis(trifluoromethylsulfonyl)amide ≥95.0% |
460092-03-9 |
5G |
￥11500 |
2024-03-01 |
購入 |
トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド 化学特性,用途語,生産方法
Conductivity
0.14 mS/cm (30 °C)
使用
[P
6,6,6,14][Ntf
2] can be used in:
- The electrodeposition of nano and microcrystalline metals for electrochemical applications.
- The synthesis of amino acid ionic liquid functionalized graphene (AAIL-GR) applicable as a biosensor.
- The investigation of interactions between ionic liquids and fluorinated alkanes.
- The synthesis of pure rutile and anatase phases of nanocrystalline TiO2.
一般的な説明
Trihexyltetradecylphosphonium bis(trifluoromethylsulfonyl)amide [P
6,6,6,14][Ntf
2] is an ionic liquid generally used in biosensors electrodeposition, and synthetic chemistry applications.
トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド 生産企業
Global( 39)Suppliers
460092-03-9(トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド)キーワード:
- 460092-03-9
- Trihexyl(tetradecyl)phosphoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)amide,min.97%CYPHOSIL109
- TETRADECYLTRIHEXYLPHOSPHONIUM BIS(TRIFLUOROMETHYLSULFONYL)AMIDE
- TRIHEXYL(TETRADECYL)PHOSPHONIUM BIS(TRIFLUOROMETHANESULFONYL)AMIDE
- TRIHEXYLTETRADECYLPHOSPHONIUM BIS(TRIFLUOROMETHYLSULFONYL)AMIDE
- TRIHEXYL(TETRADECYL)PHOSPHONIUM BIS(TRIFLUOROMETHYLSULFONYL)IMIDE
- CYPHOSIL 109
- TRIHEXYLTETRADECYLPHOSPHONIUMBIS(TRIFLUOROMETHYLSULFONYL)AMID
- Trihexyl(tetradecyl)phosphoniumbis(trifluoromethanesulfonyl)amidecyphosil109
- Trihexyl(tetradecyl)phosphonium bis[(trifluoromethyl)sulfonyl]azanide
- Trihexyltetradecylphosphonium bis(trifluoromethylsulfonyl)amide >=95.0%
- [H3C14P]NTf2
- Trihexyl(tetradecyl)phosphonium bis(trifluoromethanesulfonyl)amide, min. 97% CYPHOS(R) IL 109
- bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide:trihexyl(tetradecyl)phosphanium
- TRIHEXYL(TETRADECYL)PHOSPHONIUM BIS(TRIFLUOROMETHYLSULFONYL)
- トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド
- TRIHEXYL(TETRADECYL)PHOSPHONIUM BIS(TRIFLUOROMETHANESULFONYL)AMIDE, MIN. 97% CYPHOS® IL 109
- トリヘキシルテトラデシルホスホニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド
- トリヘキシル(テトラデシル)ホスホニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミド, min. 97% CYPHOS® IL 109