ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)]

ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)] 化学構造式
819050-89-0
CAS番号.
819050-89-0
化学名:
ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)]
别名:
ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)];ビス[ロジウム(Α,Α,Α′,Α′-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)]
英語名:
Bis[rhodium(α,α,α′,α′-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic acid)
英語别名:
Rh2(esp)2;Bis[rhodium(αBis(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-benzenedipropionato)dirhodium;Bis[rhodium(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic acid);bis[rhodium(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic acid)];Bis[rhodium(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic Acid)];bis[(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-Phenylenebispropionic acid)rhodium;Bis[rhodium(a,a,a#,a#-tetramethyl-1,3-benzenedipropionicacid)],96%;Bis[rhodium(a,a,a#,a#-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic acid)], 96%;Rhodium, bis[μ-[α,α,α′,α′-tetramethyl-1,3-benzenedipropanoato(2-)-κO1,κO′3:κO3,κO′1]]di-, (Rh-Rh)
CBNumber:
CB8972901
化学式:
2C16H22O4.Rh2
分子量:
762.512
MOL File:
819050-89-0.mol
MSDS File:
SDS

ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)] 物理性質

融点 :
>300 °C
貯蔵温度 :
Inert atmosphere,Room Temperature
外見 :
powder to crystal
色:
Yellow to Brown to Dark green
安全性情報
  • リスクと安全性に関する声明
  • 危険有害性情報のコード(GHS)
WGK Germany  3
HSコード  28439000
絵表示(GHS) GHS hazard pictogramsGHS hazard pictograms
注意喚起語 危険
危険有害性情報
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H290 金属腐食のおそれ 金属腐食性物質 1 警告 GHS hazard pictograms P234, P390, P404
H314 重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷 皮膚腐食性/刺激性 1A, B, C 危険 GHS hazard pictograms P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
注意書き
P234 他の容器に移し替えないこと。
P260 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーを吸入しないこ と。
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P271 屋外または換気の良い場所でのみ使用すること。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P301+P330+P331 飲み込んだ場合:口をすすぐこと。無理に吐かせ ないこと。
P303+P361+P353 皮膚(または髪)に付着した場合:直ちに汚染された衣 類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。
P390 物的被害を防止するためにも流出したものを吸収 すること。

ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)] 価格 もっと(4)

メーカー 製品番号 製品説明 CAS番号 包装 価格 更新時間 購入
東京化成工業 B4549 ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)] >96.0%(HPLC)
Bis[rhodium(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic Acid)] >96.0%(HPLC)
819050-89-0 100mg ¥13000 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 662623 ビス[ロジウム(α,α,α′,α′-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)] 96%
Bis[rhodium(α,α,α′,α′-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic acid)] 96%
819050-89-0 100mg ¥15000 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 662623 ビス[ロジウム(α,α,α′,α′-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)] 96%
Bis[rhodium(α,α,α′,α′-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic acid)] 96%
819050-89-0 500mg ¥49700 2024-03-01 購入
東京化成工業 B4549 >96.0%(HPLC)
Bis[rhodium(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic Acid)] >96.0%(HPLC)
819050-89-0 500MG ¥39500 2021-03-23 購入

ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)] 化学特性,用途語,生産方法

外観

黄色~褐色~暗い緑色粉末~結晶

使用

Rh2(esp)2: An Exceptionally Efficient and Selective Catalyst for C-H Amination

ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)] 上流と下流の製品情報

原材料

準備製品


ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)] 生産企業

Global( 59)Suppliers
名前 電話番号 電子メール 国籍 製品カタログ 優位度
ATK CHEMICAL COMPANY LIMITED
+undefined-21-51877795
ivan@atkchemical.com China 32480 60
Zhengzhou Alfa Chemical Co.,Ltd
+8618530059196
sale04@alfachem.cn China 12468 58
Career Henan Chemica Co
+86-0371-86658258 15093356674;
laboratory@coreychem.com China 30255 58
Suzhou Origin Specialty Chemicals Co., Ltd.
+86-512-68662322 +86-17312436797
hanqun@origsc.com China 785 58
Shanghai Acmec Biochemical Technology Co., Ltd.
+undefined18621343501
product@acmec-e.com China 33349 58
Aladdin Scientific
+1-833-552-7181
sales@aladdinsci.com United States 57511 58
Rhawn Reagent 400-1332688 18019345275
amy@rhawn.cn China 1439 58
Changzhou Run-chem Biotech Co., ltd 15061933924
3301839366@qq.com China 770 58
Aikon International Limited 025-66113011 13155353615
qzhang@aikonchem.com China 15396 58
TCI (Shanghai) Development Co., Ltd. 021-67121386
Sales-CN@TCIchemicals.com China 24539 81

819050-89-0(ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)])キーワード:


  • 819050-89-0
  • Bis[rhodium(a,a,a#,a#-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic acid)], 96%
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  • Bis[rhodium(&alpha
  • Bis[rhodium(a,a,a#,a#-tetramethyl-1,3-benzenedipropionicacid)],96%
  • Bis[rhodium(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic acid)
  • bis(lambda2-rhodium(2+)) bis(3-[3-(2-carboxylato-2,2-dimethylethyl)phenyl]-2,2-dimethylpropanoate)
  • Rh2(esp)2
  • Bis(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-benzenedipropionato)dirhodium
  • bis[(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-Phenylenebispropionic acid)rhodium
  • Bis[rhodium(α,α,α',α'-tetramethyl-1,3-benzenedipropionic Acid)]
  • Rhodium, bis[μ-[α,α,α′,α′-tetramethyl-1,3-benzenedipropanoato(2-)-κO1,κO′3:κO3,κO′1]]di-, (Rh-Rh)
  • ビス[ロジウム(α,α,α',α'-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)]
  • ビス[ロジウム(Α,Α,Α′,Α′-テトラメチル-1,3-ベンゼンジプロピオン酸)]
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