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ChemicalBook > 製品カタログ > 化学試薬 > 有機試薬 > シラン > ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)

ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)

ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L) price.
  • ¥8000 - ¥535000
  • 化学名: ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
  • 英語名: Sodium bis(trimethylsilyl)amide
  • 別名:ヘキサメチルジシラザンナトリウム (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L);ソジオジ(トリメチルシリル)アミン;[ビス(トリメチルシリル)アミノ]ナトリウム;ソジオイミノビス(トリメチルシラン);N-(トリメチルシリル)-N-ソジオトリメチルシリルアミン;α,α,α-トリメチル-N-ソジオ-N-(トリメチルシリル)シランアミン;ビス(トリメチルシリル)ソジオアミン;1,1,1,3,3,3-ヘキサメチル-2-ソジオプロパンジシラザン;3-ソジオ-2,2,4,4-テトラメチル-3-アザ-2,4-ジシラペンタン;[ジ(トリメチルシリル)アミノ]ナトリウム;(ソジオイミノ)ビス(トリメチルシラン);ビス(トリメチルシリル)アミノナトリウム;ソジオビス(トリメチルシリル)アミン;N-ソジオビス(トリメチルシリル)アミン;ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド;ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド,テトラヒドロフラン溶液;ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L);ナトリウムヘキサメチルジシラジド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L);ヘキサメチルジシラザンナトリウム;ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 1M IN THF
  • CAS番号: 1070-89-9
  • 分子式: C6H18NNaSi2
  • 分子量: 183.37
  • EINECS:213-983-8
  • MDL Number:MFCD00009835
33物価
選択条件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 東京化成工業
  • 関東化学株式会社(KANTO)
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 2g
  • 5g
  • 10g
  • 25g
  • 50g
  • 4x25ml
  • 100mL
  • 100g
  • 4x100ml
  • 500mL
  • 800ml
  • 5l-f
  • 5L
  • 18l
  • 500ml-f
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF033505
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 98%
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98%
  • 包装単位2g
  • 価格¥11300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01FLCS14981
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 1M in THF
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide 1M in THF
  • 包装単位100g
  • 価格¥15000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01FLCS14980
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 2M in THF
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide 2M in THF
  • 包装単位100mL
  • 価格¥15000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01W0232-9579
  • 製品説明ヘキサメチルジシラザンナトリウム 97.0+%
  • 英語製品説明Hexamethyldisilazane Sodium Salt 97.0+%
  • 包装単位5g
  • 価格¥16400
  • 更新しました2021-03-23
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01SRM11-1500
  • 製品説明ヘキサメチルジシラザンナトリウム
  • 英語製品説明Sodium Hexamethyldisilazane
  • 包装単位5g
  • 価格¥18100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01AFAL13352
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 2M soln. in THF
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M soln. in THF
  • 包装単位100mL
  • 価格¥23820
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF033505
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 98%
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98%
  • 包装単位10g
  • 価格¥35600
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01FLCS14980
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 2M in THF
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide 2M in THF
  • 包装単位500mL
  • 価格¥56300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01SRM11-1500
  • 製品説明ヘキサメチルジシラザンナトリウム
  • 英語製品説明Sodium Hexamethyldisilazane
  • 包装単位25g
  • 価格¥70100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01AFAL13352
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 2M soln. in THF
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M soln. in THF
  • 包装単位500mL
  • 価格¥77220
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF033505
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 98%
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98%
  • 包装単位50g
  • 価格¥130000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者東京化成工業
  • 製品番号H0894
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
  • 英語製品説明Sodium Bis(trimethylsilyl)amide (contains 2-Methyl-2-butene) (38% in Tetrahydrofuran, ca. 1.9mol/L)
  • 包装単位100mL
  • 価格¥8000
  • 更新しました2023-06-01
  • 購入
  • 生産者東京化成工業
  • 製品番号H0894
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
  • 英語製品説明Sodium Bis(trimethylsilyl)amide (contains 2-Methyl-2-butene) (38% in Tetrahydrofuran, ca. 1.9mol/L)
  • 包装単位500mL
  • 価格¥28800
  • 更新しました2023-06-01
  • 購入
  • 生産者関東化学株式会社(KANTO)
  • 製品番号37135-25
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド,テトラヒドロフラン溶液 0.9mol/L~1.2mol/L
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide, tetrahydrofuran solution 0.9mol/L~1.2mol/L
  • 包装単位100mL
  • 価格¥8500
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者関東化学株式会社(KANTO)
  • 製品番号21596-2A
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド >95.0%
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide >95.0%
  • 包装単位5g
  • 価格¥9400
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者関東化学株式会社(KANTO)
  • 製品番号21596-1A
  • 製品説明ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド >95.0%
  • 英語製品説明Sodium bis(trimethylsilyl)amide >95.0%
  • 包装単位25g
  • 価格¥25300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
生産者 製品番号 製品説明 包装単位 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF033505 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 98%
Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98%
2g ¥11300 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01FLCS14981 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 1M in THF
Sodium bis(trimethylsilyl)amide 1M in THF
100g ¥15000 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01FLCS14980 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 2M in THF
Sodium bis(trimethylsilyl)amide 2M in THF
100mL ¥15000 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01W0232-9579 ヘキサメチルジシラザンナトリウム 97.0+%
Hexamethyldisilazane Sodium Salt 97.0+%
5g ¥16400 2021-03-23 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01SRM11-1500 ヘキサメチルジシラザンナトリウム
Sodium Hexamethyldisilazane
5g ¥18100 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01AFAL13352 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 2M soln. in THF
Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M soln. in THF
100mL ¥23820 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF033505 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 98%
Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98%
10g ¥35600 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01FLCS14980 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 2M in THF
Sodium bis(trimethylsilyl)amide 2M in THF
500mL ¥56300 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01SRM11-1500 ヘキサメチルジシラザンナトリウム
Sodium Hexamethyldisilazane
25g ¥70100 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01AFAL13352 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 2M soln. in THF
Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M soln. in THF
500mL ¥77220 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF033505 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 98%
Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98%
50g ¥130000 2024-03-01 購入
東京化成工業 H0894 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
Sodium Bis(trimethylsilyl)amide (contains 2-Methyl-2-butene) (38% in Tetrahydrofuran, ca. 1.9mol/L)
100mL ¥8000 2023-06-01 購入
東京化成工業 H0894 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド (2-メチル-2-ブテン含む) (38%テトラヒドロフラン溶液, 約1.9mol/L)
Sodium Bis(trimethylsilyl)amide (contains 2-Methyl-2-butene) (38% in Tetrahydrofuran, ca. 1.9mol/L)
500mL ¥28800 2023-06-01 購入
関東化学株式会社(KANTO) 37135-25 ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド,テトラヒドロフラン溶液 0.9mol/L~1.2mol/L
Sodium bis(trimethylsilyl)amide, tetrahydrofuran solution 0.9mol/L~1.2mol/L
100mL ¥8500 2024-03-01 購入
関東化学株式会社(KANTO) 21596-2A ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド >95.0%
Sodium bis(trimethylsilyl)amide >95.0%
5g ¥9400 2024-03-01 購入
関東化学株式会社(KANTO) 21596-1A ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド >95.0%
Sodium bis(trimethylsilyl)amide >95.0%
25g ¥25300 2024-03-01 購入

プロパティ

融点  :171-175 °C (lit.)
沸点  :67°C
比重(密度)  :0.904 g/mL at 25 °C
闪点  :43 °F
貯蔵温度  :2-8°C
溶解性 :Soluble in hexane, toluene, ether,terahydrofuran, benzene and toluene.
外見  :Liquid
比重 :0.9
色 :Clear orange to brown
水溶解度  :reacts
Hydrolytic Sensitivity :8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
Sensitive  :Moisture Sensitive
BRN  :3629917
暴露限界値 :ACGIH: TWA 50 ppm; STEL 100 ppm (Skin)
OSHA: TWA 200 ppm(590 mg/m3)
NIOSH: IDLH 2000 ppm; TWA 200 ppm(590 mg/m3); STEL 250 ppm(735 mg/m3) CAS データベース :1070-89-9(CAS DataBase Reference)
EPAの化学物質情報 :Silanamine, 1,1,1-trimethyl-N-(trimethylsilyl)-, sodium salt (1070-89-9)

安全情報

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Danger
危険有害性情報:
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H314 重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷 皮膚腐食性/刺激性 1A, B, C 危険 GHS hazard pictograms P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501
注意書き:
P260 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーを吸入しないこ と。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P303+P361+P353 皮膚(または髪)に付着した場合:直ちに汚染された衣 類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P363 汚染された衣類を再使用す場合には洗濯をすること。

説明

Sodium bis(trimethylsilyl)amide is useful for the generation of carbenes, the amination of sulfonamides, and for the preparation of lanthanide complexes. It is significantly accelerated the polymerization of pheneylacetylene in conjunction with rhodium (I) catalysis. It is used to deprotonate ketones and esters to generate enolate derivatives, phosphonium salts, generating Wittig reagents.

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