碳化硼溅射靶 基本信息

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碳化硼溅射靶
中文名称:碳化硼溅射靶
中文同义词:碳化硼溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THICK,;碳化硼溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.5% (METALS BASIS);碳化硼溅射靶
英文名称:BORON CARBIDE SPUTTERING TARGET, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THICK, 99.5% (METALS BASIS)
英文同义词:BORON CARBIDE SPUTTERING TARGET, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THICK, 99.5% (METALS BASIS);Boron carbide sputtering target, 99,5%, 29mm dia. x 3mm;Boron carbide sputtertarget, 99.5%, 14mm x 25mm x 3.18mm, material is hot pressed
CAS号:
分子式:
分子量:0
EINECS号:235-111-5
Mol文件:Mol File

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