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名前:Alfa Aesar
電話番号:400-610-6006; 021-67582000
ファックス番号:021-67582001/03/05
電子メール:saleschina@alfa-asia.com
国籍:China
ウェブサイト:www.alfachina.cn
商品の合計数:30168

製品カタログ

4-BroMo-3,5-diMethyl-1-phenylsulfonyl-1H-pyrazole, 95%1-ベンゼンスルホニル-4-ブロモ-3,5-ジメチル-1H-ピラゾール130874-32-7C11H11BrN2O2S
DysprosiuM(III) oxide, needles, 99.5% (REO)酸化ジスプロシウム(Ⅲ)1308-87-8Dy2O3
Methyl trifluoropyruvate, 97%トリフルオロピルビン酸メチル13089-11-7C4H3F3O3
EuropiuM(III) oxide, 99.9% (REO)ユロピウム(III)オキシド1308-96-9Eu2O3
4-Chloro-3-nitropyridine, 95%, May cont. variable aMounts of oligoMers4-クロロ-3-ニトロピリジン13091-23-1C5H3ClN2O2
2-AMino-3-broMo-5-Methylbenzoic acid, 98+%2-アミノ-3-ブロモ-5-メチル安息香酸13091-43-5C8H8BrNO2
Pyrite, naturally occurring Mineral, approxiMately 7.6x7.6cM (3x3in)三硫化二鉄1309-36-0FeS2
Iron(III) oxide, ^a-phase, 98% (Metals basis)第二酸化1309-37-1Fe2O3
MagnesiuM hydroxide, 95-100.5%マグネシウムジヒドロキシド1309-42-8H2MgO2
MagnesiuM oxide, 99+% (Metals basis)マグネシウムオキシド1309-48-4MgO
Quinine, anhydrous, 99% (total base), May cont. up to 5% dihydroquinineキニン130-95-0C20H24N2O2
Molybdenite, naturally occurring Mineral, grains, approxiMately 0.06-0.19in輝水鉛鉱1309-56-4MoS2
Lead(IV) oxide, 97%鉛(IV)ジオキシド1309-60-0O2Pb-2
AntiMony(III) oxide, 99%三酸化アンチモン1309-64-4O3Sb2
(4-Fluorophenylethynyl)triMethylsilane, 97%130995-12-9C6H4FC≡CSi(CH3)3
3-[(TriMethylsilyl)ethynyl]thiophene, 97%3-(トリメチルシリルエチニル)チオフェン130995-13-0C9H12SSI
Methyl 2-broMo-3-Methylbenzoate, 98%2-ブロモ-3-メチル安息香酸メチル131001-86-0C9H9BrO2
Lead(II) hexafluorosilicate dihydrate六フッ化ケイ酸鉛(II)・2水和物1310-03-8
Iron(II) selenide, 99.9% (Metals basis)鉄(II)セレニド1310-32-3FeSe
10-IsocyanatodecyltriMethoxysilane, 95%1310372-82-7C14H29NO4Si
N,N-DiMethyl-4-(2-pyridylazo)aniline, 98%ピリジン-2-アゾ-p-ジメチルアニリン13103-75-8C13H14N4
4'-(4-Methoxyphenyl)-2,2':6',2''-terpyridine, 98%4'-(p-メトキシフェニル)-2,2':6',2''-テルピリジン13104-56-8C22H17N3O
MagnesiuM gerManide, 99.99% (Metals basis)1310-52-7Ge.2Mg
GerManiuM(IV) oxide, 99.99% (Metals basis)二酸化ゲルマニウム1310-53-8GeO2
PotassiuM hydroxide, pellets, 85%カリウムヒドロキシド1310-58-3KOH
LithiuM hydroxide, anhydrous, 99.995% (Metals basis)リチウムヒドロキシド1310-65-2LiOH
LithiuM hydroxide Monohydrate, 98%水酸化リチウム1水塩1310-66-3Li.HO.H2O
AMMoniuM Molybdate, 99.99% (Metals basis)モリブデン酸ビスアンモニウム13106-76-8H8MoN2O4
(S)-(+)-1-(1-Naphthyl)ethyl isothiocyanate, 97%131074-55-0C13H11NS
4,5-DiMethoxy-o-phenylenediaMine dihydrochloride, 98%1,2-ジアミノ-4,5-ジメトキシベンゼン二塩酸塩131076-14-7C8H14Cl2N2O2
RubidiuM hydroxide, 50% w/w aq. soln., 99.6+% (Metals basis)ルビジウムヒドロキシド1310-82-3HORb
9,10-Anthraquinone-2-sulfonic acid sodiuM salt hydrate, 97% (dry wt.), water ca 4-6%アントラキノン-2-スルホン酸ナトリウム一水和物131-08-8C14H7NaO5S
n-Pentyl 4-aMinobenzoate, 98%4-アミノベンゼンカルボン酸ペンチル13110-37-7C12H17NO2
5-Acetylsalicylic acid, 98+%5-アセチル-2-ヒドロキシ安息香酸13110-96-8C9H8O4
StrontiuM hydroxide octahydrate, 99% (Metals basis)塩化ストロンチウム六水和物1311-10-0H18O10Sr
DiMethyl phthalate, 99%フタル酸ジメチル131-11-3C10H10O4
(S)-(+)-2-Hydroxy-2-phenylpropionic acid, 98+%[S,(+)]-α-ヒドロキシ-α-メチルベンゼン酢酸13113-71-8C9H10O3
4-Iodophenylhydrazine, 95%4-ヨードフェニルヒドラジン ヨウ化物13116-27-3C6H7IN2
Di-n-propyl phthalate, 98%フタル酸ジプロピル131-16-8C14H18O4
Diallyl phthalate, 97%フタル酸ジアリル131-17-9C14H14O4
Di-n-pentyl phthalate, 98%フタル酸ジアミル131-18-0C18H26O4
1,4-Bis(MethoxydiMethylsilyl)benzene, 97%131182-68-8C12H22O2Si2
3-Chloro-N-(3-fluorobenzyl)benzaMide, 97%1311829-27-2C14H11ClFNO
AMMoniuM tungsten oxide pentahydrate, Puratronic|r, 99.999% (Metals basis)タングステン酸アンモニウム パラ 五水和物1311-93-9H18N2O9W
4-Pyridineacetonitrile, 97+%13121-99-8C7H6N2
6,12-DibroMochrysene, 99%6,12-ジブロモクリセン131222-99-6C18H10Br2
N-Boc-L-phenylalanyl-L-phenylalanine, 95%BOC-L-ジフェニルアラニン13122-90-2C23H28N2O5
IndiuM antiMonide, Electronic Grade, 99.99% (Metals basis)スチビントリイルインジウム(III)1312-41-0InSb
4-(2,4-Dichlorophenyl)-3-thioseMicarbazide, 98+%1-(2,4-ジクロロフェニル)チオセミカルバジド13124-11-3C7H7Cl2N3S
IndiuM(III) oxide, 99.995% (Metals basis)酸化インジウム(III),3N1312-43-2In2O3
RubidiuM nitrate, 99% (Metals basis)ルビジウムニトラート13126-12-0NO3Rb
Tri-tert-butylphosphoniuM tetrafluoroborate, 97%トリ-tert-ブチルホスホニウムテトラフルオロボラート131274-22-1C12H28P.BF4
PotassiuM silicate, anhydrousけい酸ジカリウム1312-76-1K2O3Si
LanthanuM(III) oxide, 99.9% (Metals basis)酸化ランタン,4N1312-81-8La2O3
N-FluoropyridiniuM pyridine heptafluorodiborate, 90+%1-フルオロピリジニウム ピリジン ヘプタフルオロジボラート131307-35-2C10H10B2F8N2
3-AMino-1-broMoisoquinoline, 97+%1-ブロモイソキノリン-3-アミン13130-79-5C9H7BrN2
NeopentylMagnesiuM chloride, 1.0M in 2-MeTHF2,2-ジメチルプロピルマグネシウムクロリド 溶液13132-23-5C5H11ClMg
MolybdenuM(VI) oxide, 99.5%モリブデン(VI)トリオキシド1313-27-5MoO3
SodiuM dodecaMolybdophosphate hydrate, 90+%ドデカモリブドリン酸ナトリウム1313-30-0Mo12Na3O40P
Zinc nitride, 99% (Metals basis)二窒化三亜鉛1313-49-1N2Zn3
SodiuM oxideオキシジナトリウム1313-59-3Na2O
n-Octylzinc broMide, 0.5M in THF, packaged under Argon in resealable CheMSeal^t bottles131379-13-0C8H17BrZn
4-Cyanophenylzinc broMide, 0.5M in THF, packaged under Argon in resealable CheMSeal^t bottles(4-シアノフェニル)ブロモ亜鉛131379-14-1C7H4BrNZn
4-(Ethoxycarbonyl)phenylzinc iodide, 0.5M in THF, packaged under Argon in resealable CheMSeal^t bottles4-(エトキシカルボニル)フェニル亜鉛ブロミド 溶液131379-15-2C2H5O2CC6H4ZnBr
2-Cyanophenylzinc broMide, 0.5M in THF, packaged under Argon in resealable CheMSeal^t bottlesブロモ(2-シアノフェニル)亜鉛131379-17-4C7H4BrNZn
3-(Ethoxycarbonyl)propylzinc broMide, 0.5M in THF, packaged under Argon in resealable CheMSeal^t bottles4-エトキシ-4-オキソブチル亜鉛ブロミド 溶液131379-39-0C6H11BrO2Zn
2-(Ethoxycarbonyl)phenylzinc broMide, 0.5M in THF, packaged under Argon in resealable CheMSeal^t bottles131379-40-3C9H9BrO2Zn
SodiuM sulfide, anhydrousジソジオスルフィド1313-82-2Na2S
(2-Butenyl)triphenylphosphoniuM chloride, 97%13138-25-5C22H22ClP
SodiuM sulfide nonahydrate, ACS, 98.0% Minジソジオスルフィド·9水和物1313-84-4H2Na2OS
4-NitrophthalaMide, 99%4-ニトロフタルアミド13138-53-9C8H7N3O4
SodiuM selenide, 99.8% (Metals basis)セレノジナトリウム1313-85-5Na2Se
Methyl 4-nitropyrrole-2-carboxylate, 95%13138-74-4C6H6N2O4
N-(tert-Butoxycarbonyloxy)succiniMide, 98+%N-[(tert-ブトキシカルボニル)オキシ]スクシンイミド13139-12-3C9H13NO5
N(^a)-Boc-L-tryptophan, 98+%N-(tert-ブトキシカルボニル)-L-トリプトファン13139-14-5C16H20N2O4
MagnesiuM Monoperoxyphthalate hexahydrate, tech. ca 80%131391-55-4C16H10MgO10.6H2O
N-Boc-L-leucine hydrate, 99%N-(tert-ブトキシカルボニル)-L-ロイシン一水和物13139-15-6C11H21NO4
N-Boc-L-isoleucine, 98+%N-(tert-ブトキシカルボニル)-L-イソロイシン0.5水和物13139-16-7C11H21NO4
N-(Benzyloxycarbonyloxy)succiniMide, 99%N-カルボベンゾキシオキシこはく酸イミド13139-17-8C12H11NO5
NiobiuM(V) oxide, 99.95% (Metals basis)酸化ニオブ(V),3N51313-96-8Nb2O5
NeodyMiuM(III) oxide, REacton|r, 99.999% (REO)酸化ネオジム,3N51313-97-9Nd2O3
4-MethoxyphenylMagnesiuM broMide, 0.25M in THFブロモ(4-メトキシフェニル)マグネシウム13139-86-1C7H7BrMgO
Nickel(II) oxide, black, Ni 76%, (contains Ni{2}O{3})ニッケル(II)オキシド1313-99-1NiO
N,N-Diethyl-2,5-difluorobenzaMide, 97%131401-55-3C11H13F2NO
Nickel(II) selenide, 99.9% (Metals basis)セレン化ニッケル(II)1314-05-2NiSe
PalladiuM(II) oxide, anhydrous, 99.9% (Metals basis), Pd 85% Minパラジウム(II)オキシド1314-08-5OPd
StrontiuM oxide, 99.5% (Metals basis), SrO ^=97%ストロンチウムオキシド1314-11-0OSr
Zinc oxide, heavy, 98%亜鉛オキシド1314-13-2OZn
PlatinuM(IV) oxide, anhydrous, PreMion|r, 99.95% (Metals basis), Pt 84.4% Min白金(IV)ジオキシド1314-15-4O2Pt
2-Chloro-N-Methylpyridine-4-carboxaMide, 95%2-クロロ-N-メチルイソニコチンアミド131418-11-6C7H7ClN2O
N-n-Butyl-2-chloropyridine-4-carboxaMide, 95%N-N-ブチル-2-クロロピリジン-4-カルボキサミド131418-15-0C10H13ClN2O
2-Chloro-N-isobutylpyridine-4-carboxaMide, 95%2-クロロ-N-イソブチルピリジン-4-カルボキサミド131418-16-1C10H13ClN2O
ZirconiuM(IV) oxide, yttria stabilized, 99.95% (Metals basis excluding Hf)ジルコニウム(IV)ジオキシド1314-23-4O2Zr
(2S,5S)-1-[2-(1,3-Dioxolan-2-yl)phenyl]-2,5-diethylphospholane, 97%1314246-02-0C17H25O2P
RheniuM(VI) oxide, 99.9% (Metals basis)レニウム(VI)トリオキシド1314-28-9O3Re
Manganese(IV) oxide, 98%二酸化マンガン1313-13-9MnO2
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