六甲基二硅烷,Hexamethyldisilane
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六甲基二硅烷 新品

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发货地 湖北
更新日期 2024-03-11
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产品详情

中文名称:六甲基二硅烷英文名称:Hexamethyldisilane
CAS:1450-14-2品牌: 诺迪纳
产地: 武汉保存条件: 常温保存
纯度规格: 98%产品类别: 医药中间体
级别: 医药级
2024-03-11 六甲基二硅烷 Hexamethyldisilane 2克 千克/RMB;2克 千克/RMB;1克 千克/RMB 诺迪纳 武汉 常温保存 98% 医药中间体

 六甲基二硅烷名称

中文名 六甲基二硅烷
英文名 Hexamethyldisilane
中文别名 六甲基二硅
英文别名更多

 六甲基二硅烷物理化学性质

密度0.7±0.1 g/cm3
沸点113.5±9.0 °C at 760 mmHg
熔点9-12 °C(lit.)
分子式C6H18Si2
分子量146.378
闪点5.8±11.8 °C
精确质量146.094696
LogP2.50
外观性状无色透明液体
蒸汽压24.5±0.2 mmHg at 25°C
折射率1.391
储存条件

保持贮藏器密封、储存在阴凉、干燥的地方,确保工作间有良好的通风或排气装置

稳定性

如果遵照规格使用和储存则不会分解,未有已知危险反应,避免氧化物、水分/潮湿、酸、碱

水溶解性水溶性:实际上不溶
分子结构

1、 摩尔折射率:47.28

2、 摩尔体积(m3/mol):199.0

3、 等张比容(90.2K):389.1

4、 表面张力(dyne/cm): 14.6

5、 介电常数:无可用

6、 偶极距(10   -24cm 3):无可用

7、 极化率:18.74

计算化学

1.疏水参数计算参考值(XlogP):无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:0

4.可旋转化学键数量:1

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积0

7.重原子数量:8

8.表面电荷:0

9.复杂度:61.5

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:1

更多

1. 性状:无色液体。

2. 密度(g/mL,25/4℃): 0.715

3. 相对蒸汽密度(g/mL,空气=1):未确定

4. 熔点(ºC):9-12

5. 沸点(ºC,常压):112-114

6. 沸点(ºC,5.2kPa): 未确定

7. 折射率: 1.422

8. 闪点(ºC): -2

9. 比旋光度(º): 未确定

10. 自燃点或引燃温度(ºC): 未确定

11. 蒸气压(kPa,25ºC): 未确定

12. 饱和蒸气压(kPa,60ºC): 未确定

13. 燃烧热(KJ/mol):未确定

14. 临界温度(ºC): 未确定

15. 临界压力(KPa): 未确定

16. 油水(辛醇/水)分配系数的对数值: 未确定

17. 爆炸上限(%,V/V):未确定

18. 爆炸下限(%,V/V): 未确定

19. 溶解性:不溶于水,溶于丙酮、苯、乙醚、庚烷。


关键字: 六甲基二硅烷;Hexamethyldisilane;1450-14-2;

公司简介

湖北诺迪纳生物技术有限公司(以下简称诺迪纳)是一家科研、开发、生产和销售为一体的科技型企业,公司自成立以来一直以一个年轻富有活力的精英团队为核心,秉承着“诚信为本,服务至上,质量第一”的企业理念,依托优异地理位置及一流的科技、物流资源,为国内外各大高校、药厂及科研单位提供最优质的产品与服务。 诺迪纳注重产品的不断开发,建立了专业的研发实验室,集中了一批稳定的合作工厂,依托标准化的生产车间和设备,可以为用户提供涵盖生命科学、有机化学、材料科学、分析化学及其他学科在内的全面的一站式的采购方案,提供克级至吨位级的产品和服务。 诺迪纳秉承着“诚信为本,服务至上,质量第一”的企业理念建立了科学的质量管理、严格的质量控制、专业的产品包装、充足的现货储备和高效的物流服务,以保证提供给客户的是我们最好的服务及最优质的产品。我们愿与新老客户真诚合作,携手并进,共创双赢的未来。
成立日期 2021-06-15 (3年) 注册资本 300万
员工人数 50-100人 年营业额 ¥ 500万-1000万
主营行业 中间体,医药原料 经营模式 贸易,工厂,试剂,定制,服务
  • 湖北诺迪纳生物技术有限公司
VIP 2年
  • 公司成立:3年
  • 注册资本:300万
  • 企业类型:有限责任公司(自然人投资或控股)
  • 主营产品:医药中间体,化学原料、生物试剂等等
  • 公司地址:武汉东湖新技术开发区光谷大道特1号国际企业中心三期1栋4层03号G54室(自贸区武汉片区)
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