作为电子级光酸发生剂(PAG),用于半导体光刻胶配方,通过紫外光激发释放三氟甲磺酸,实现高分辨率图案转移(线宽≤28nm)。其热稳定性(熔点114-117℃)和低金属离子含量(≤10ppb)满足先进制程需求。
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