三苯基硫鎓双三氟甲烷磺酰亚胺盐

核心应用与机理

1. 化学放大光刻胶核心 PAG

• 曝光时（适配 KrF 248 nm、ArF 193 nm 等 DUV 波段），硫鎓阳离子吸收光子分解，释放双三氟甲烷磺酰亚胺酸（HTFSI），该强酸可催化光刻胶中树脂的酸敏感保护基脱除（如叔丁氧羰基脱保护），引发涂层在显影液中溶解性急剧变化，实现高精度图形转移。

• 适配半导体芯片制造、先进封装、显示面板与 PCB 的图形化工艺，能提升光刻胶的灵敏度、分辨率与工艺窗口，常与含酸敏感基团的树脂（如聚对羟基苯乙烯衍生物）复配使用。

2. 阳离子光引发剂

• 用于光固化体系（如环氧、乙烯基醚类树脂），光照产酸引发阳离子聚合，可制备高交联密度的涂层、胶粘剂与复合材料，适用于电子封装、3D 打印等场景，固化产物具有优异的耐热性与力学性能。

3. 有机合成与材料改性试剂

• 可作为高效的酸源，催化酯交换、缩合、环化等反应；也能用于聚合物改性，如引入磺酸基团调控材料的亲水性、导电性，或作为离子液体前体合成功能化离子液体。

4. 抗反射涂层与光刻辅助材料组分

• 用于制备光刻用底部抗反射涂层（BARC），曝光产酸可辅助涂层交联或分解，降低光刻过程中的反射干扰，提升图形质量；还可作为光刻胶添加剂，调控体系的光敏性、对比度与储存稳定性。