2-8度光刻胶冷藏箱

适用场合

• 半导体晶圆制造厂：存放紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电子束光刻胶等，维持涂布前的最佳流动性与感光特性。

• 集成电路设计及封装实验室：用于光刻胶、显影液、增粘剂等配套试剂的日常恒温储存，便于取用。

• 高校与研究所微纳加工平台：为各类曝光实验提供持续低温保存条件，确保实验批次间条件一致。

• 光学元件与显示面板制造：在光刻工艺的物料准备区，为光敏材料提供洁净、控温的存储空间。

产品特点

• 恒定 2-8℃ 区间控温：采用微电脑温度控制系统，数显实时温度，可在 2-8℃ 范围内按需设定，温度波动幅度小，长久运行温度不易偏移，避免低温析出或温度过高导致光刻胶性能变化。

• 均匀温场设计：通过优化的风道循环或传导均温结构，箱内各层搁架之间温差控制在一定范围，减小因温度不均引起的同一批次光刻胶状态差异。

• 稳定制冷与可靠防护：选用高效压缩机，配合良好的箱体密封与保温层，即使在频繁开门取样的工况下，也能较快恢复设定温度；具备高低温越限报警、开门延时提醒及传感器故障提示，遇异常可及时响应。

• 洁净易洁内腔：内胆采用耐腐蚀、易擦拭材质，不易残留污渍及化学气味；可调搁架承重稳固，适合放置不同规格的光刻胶瓶、试剂瓶及样品盒，合理利用内部空间。

• 低噪运行与便捷查看：运行音量较低，适合安置在实验室操作台旁或工艺准备间；配备透明玻璃视窗或箱内照明（以实际配置为准），无需开门即可观察储存物品概况，减少开门带来的温度干扰。