光催化用纳米氧化亚铜 50nm

纳米氧化亚铜为 p 型窄禁带半导体（禁带宽度约2.17eV），可吸收波长小于570nm 的可见光，光生电子-空穴分离效率高，在可见光下即可产生活性氧物种降解有机污染物，无需紫外光源，太阳光利用率显著优于二氧化钛。同时铜离子缓释赋予其广谱抗菌与海洋防污能力。

【技术参数】

【质量检测】

SEM观察一次粒径30-70nm（100nm标尺，×100,000）；Cu2O含量≥99%；金属铜≤0.5%、CuO≤1.0%；比表面积10-30 m2/g；干燥失重≤0.5%；可见光（λ＞420nm）照射120min 甲基橙降解率≥85%。

【应用案例】

1. 可见光降解染料废水：甲基橙、罗丹明B 降解率≥85%，循环使用5次活性保持80%以上。

2. 海洋防污涂料：抑制硅藻与藤壶附着，静态挂板6个月污损面积＜10%。

3. 抗菌纺织品与涂层：对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌抑菌率≥99%。

4. 光催化 CO2 还原与制氢：作为助催化剂与二氧化钛复合，可见光产氢速率明显提升。

5. 有机合成催化剂：用于叠氮-炔环加成、偶联反应，条件温和、可回收。