光学玻璃抛光用纳米二氧化锆 40nm

光学镜片、手机盖板玻璃与精密陶瓷的抛光磨料。二氧化锆硬度介于氧化铝与氧化铈之间（莫氏 8.5），切削力强而磨削热低，抛光后表面缺陷层浅，容易获得 Ra＜1nm 的镜面且不易产生橘皮与划伤；单斜相为主、粒径 40nm 级并窄分布，可兼顾去除速率与表面光洁度，适合精抛与终抛工序。

【技术参数】

【质量检测】

SEM 观察一次粒径 30-60nm（100nm 标尺，×150,000）；ZrO2（含 HfO2）≥99.5%；单斜相≥90%（XRD）；比表面积 10-20 m2/g；灼烧减量≤1.0%；Fe2O3≤0.02%、SiO2≤0.05%、Na2O≤0.03%；D50（水分散）0.2-0.5μm；pH（10% 浆料）6.0-8.0。

【应用案例】

1. 光学镜片精抛：配制成 10%-15% 悬浮液，去除速率较氧化铈稳定，表面粗糙度 Ra≤0.8nm。

2. 手机盖板玻璃与摄像头镜片：终抛后无划痕、无雾化，透过率损失＜0.2%。

3. 精密陶瓷轴承球：球面度与粗糙度同步达标，抛光效率高。

4. 蓝宝石窗口片预抛：作为氧化铈终抛前的中间工序，缩短总工时。

5. 硬质合金模具镜面抛光：不产生磨料嵌入。