牙科修复用纳米二氧化锆 50nm

牙科修复体（冠、桥、贴面、种植基台）用高纯纳米二氧化锆。50nm 一次粒径、3Y 四方相稳定体系，稀土杂质总量控制在 100ppm 以内，烧结体透光性好、呈自然半透明质感；晶粒细小均匀，低温老化（LTD）敏感性低，在口腔水汽环境中长期使用不易发生四方相向单斜相转变，适合 CAD/CAM 切削与多次烧结工艺。

【技术参数】

【质量检测】

SEM 观察一次粒径 40-60nm（200nm 标尺，×50,000，实测 48nm）；ZrO2（含稳定剂）≥99.95%；Y2O3 4.5-5.5mol%；Fe2O3≤30ppm、SiO2≤50ppm、Na2O≤30ppm，稀土杂质总量≤100ppm；比表面积 10-15 m2/g；单斜相含量≤5%（XRD）；灼烧减量≤0.8%；D50 0.05-0.08μm。

【应用案例】

1. 全瓷冠与桥：1450℃ 烧结 2h，相对密度≥99.5%，三点弯曲强度≥1100MPa。

2. 前牙贴面：0.5mm 厚度下透光率满足比色要求，无灰暗感。

3. 种植基台：与钛基台粘接后抗压强度达标，边缘密合度＜30μm。

4. 多次上釉返烧：经 3 次 900℃ 返烧，相组成稳定、无微裂纹。

5. 低温老化测试：134℃、0.2MPa 水热老化 20h，单斜相增量＜10%，表面粗糙度无明显变化。