铝蚀刻剂 A

Transene公司铝蚀刻剂是提供用以蚀刻硅部件上和集成电路中金属铝的稳定无毒的成方制剂。可以刻制铝触点和连接线。这些铝蚀刻剂具有能克服铝蚀刻过程中出现的许多问题的独特性能。

铝金属化和使用光印刷术的蚀刻工艺是半导体和微型电子技术的基础。Transene公司的铝蚀刻剂与市售光刻胶（KTFR，AZ、Hunt、Waycoat等）具有良好匹配性，可以蚀刻出高分辨率图案。可以得到宽度为1密耳的金属线，线间距可小于5微米。Transene公司的铝蚀刻剂分辨率高，因为它不剥脱光刻胶，这样蚀刻线边下蚀现象就最少。而且该蚀刻剂不浸蚀硅、二氧化硅、氮化硅或镍铬电阻膜。

供应两种铝蚀刻剂用于微型电子器件。其中A型铝蚀刻剂建议用于硅部件，D型建议用于砷化镓和磷化镓部件以避免蚀刻剂对金属互化物的浸蚀作用。也建议用于蚀刻镍铬薄膜电阻上的金属铝。

 

Transene公司铝蚀刻剂性能

 

 

注：蚀刻速率因铝纯度不同而微有区别。

 

 

 

应用

用真空沉积法在硅片上镀一层厚25000 ?的铝膜，涂以光刻胶，上面覆盖上摄影片，在紫外光源下暴光。光刻胶显示图案，其中作为连接线的铝被保护，而不受保护部分的铝则被铝蚀刻剂浸蚀除掉。随后用水冲洗。

蚀刻时间根据蚀刻温度和铝膜厚度而定。在蚀刻厚铝膜时，蚀刻速率要高，此时要在较高温度下进行蚀刻。与此相反，对于薄铝膜则需要蚀刻速率慢，蚀刻温度低。在某一具体温度下，蚀刻时间可根据下列公式计算：

    蚀刻时间（分钟）=           膜厚（?）     

                         蚀刻时间（?/秒）* 60

青岛凯莫思生化科技有限公司是一家集化学试剂、仪器耗材、电子化学品等产品产销于一体的综合经销商。产品主要涵盖无机、有机和金属有机化合物，纯金属和元素，贵金属化合物和催化剂；玻璃仪器、科学仪器、实验室家具等仪器耗材；半导体微型电子产品、薄膜和厚膜混合体、微型电子线路、电子构件等电子化学品在内的上万种产品。能够为医药，生物科技，工业，教育，政府机构以及健康产业等不同行业客户的实验室以及工厂提供产品、服务和解决方案；可以满足科研人员进行各类研究和开发工作。 公司目前在中国、美国都设有仓储基地。中国仓储基地位于中国天津经济技术开发区，现拥有大型甲级化学品仓库和乙级化学品仓库，能够满足微量、大宗等产品的存储、分装、周转以及定制合成。美国仓储基地位于美国新罕布夏州的哈德逊。 公司目前化学试剂产品的库存就超过了10000种，生产和销售的仪器耗材类产品总数超过55000种。公司生产的电子化学产品被广泛应用于国内外半导体微型电子产品、薄膜和厚膜混合体、微型电子线路、电子构件和其他电子产品的研发和实验中。除此之外，依托于国内外先进的试验机构和实验室资源，我们在定制合成方面拥有丰富的经验和资源，可以根据客户需求