砷化镓

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发货地	浙江
更新日期	2022-08-24

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中文名称:砷化镓	英文名称:GaAs
CAS:1303-00-0	纯度规格: 99.9999%
产品类别: 无机盐

砷化镓(GaAs)
1,物理性质：
分子量:144.6446
CAS号:1303-00-0
熔点:1238℃
密度:5.37g/cm3
外观:黑灰色固体
晶格常数：5.65×10-10m
禁带宽度：1.4电子伏
2，合成工艺：高纯的砷与高纯镓真空熔炼，后续处理后再进行区熔；
3，纯度：6N(99.9999%)
3，检测：GDMS（所有的杂质元素低于1ppm),XRD;
4, 包装：三层真空包装或充氩气保护；
5，服务：提供免费样品，MSDS及实用的防护措施；
6，应用：集成电路衬底，红外探测器，γ光子探测器，砷化镓太阳能电池

关键字：砷化镓 GaAs 高纯

公司简介

公司12年来共研制开发出40余项半导体化合物材料：碲系化合物：碲化铜(CuTe)，碲化铟( InTe)，碲化锌(ZnTe)，P/N三碲化二铋(Bi2Te3)，二氧化碲(TeO2)... 硫系化合物：三硫化二镓(Ga2S3)，二硫化锗(GeS2)，硫化锌(ZnS)，硫化锡(SnS)，三硫化二铟(In2S3)，硫化亚铜（Cu2S）... 无氧硒及硒系化合物: 三硒化二镓(Ga2Se3)，硒化亚铜(Cu2Se)，三硒化二铟(In2Se3)，硒化锌(ZnSe)，硒化铋(Bi2Se3)... 氯系化合物：无水三氯化铟(InCl3)，无水三氯化镓(GaCl3)，无水氯化亚铟(InCl)... 氧系化合物： 4N-5N三氧化二镓(Ga2O3)，4N-5N氧化锌(ZnO)，5N-6N 三氧化二铟(In2O3)，5N 三氧化二铋(Bi2O3)，4N-5N 三氧化二锑（Sb2O3）... 铜铟镓硒（CIGS

成立日期	2018-07-02 （6年）	注册资本	2000万人民币
员工人数	50-100人	年营业额	￥ 5000万-1亿
主营行业	无机盐,无机化合物,单质元素	经营模式	贸易,工厂

杭州凯亚达半导体材料有限公司

非会员

公司成立：6年
注册资本：2000万人民币
企业类型：私营有限责任公司
主营产品：公司12年来共研制开发出40余项半导体化合物材料：碲系化合物：碲化铜(CuTe)，碲化铟( InTe)，碲化锌(ZnTe)，P/N三碲化二铋(Bi2Te3)，二氧化碲(TeO2)... 硫系化合物：三硫化二镓(Ga2S3)，二硫化锗(GeS2)，硫化锌(ZnS)，硫化锡(SnS)，三硫化二铟(In2S3)，硫化亚铜（Cu2S）... 无氧硒及硒系化合物: 三硒化二镓(Ga2Se3)，硒化亚铜(Cu2Se)，三硒化二铟(In2Se3)，硒化锌(ZnSe)，硒化铋(Bi2Se3)... 氯系化合物：无水三氯化铟(InCl3)，无水三氯化镓(GaCl3)，无水氯化亚铟(InCl)... 氧系化合物： 4N-5N三氧化二镓(Ga2O3)，4N-5N氧化锌(ZnO)，5N-6N 三氧化二铟(In2O3)，5N 三氧化二铋(Bi2O3)，4N-5N 三氧化二锑（Sb2O3）... 铜铟镓硒（CIGS）系列材料. 靶材：氧化锌靶，氧化锌铝靶，铜铟镓硒靶，三硒化二铟靶，硒化亚铜靶材... 公司现有工艺及设备： 1，电解装置4套：回收电解铜，电解铅锌矿的阳极泥；高纯铟的电解，特别是除去里面的杂质锡。 2，真空蒸馏装置12套：根据杂质不同的饱和蒸气压，采用真空蒸馏的方法将其去除。 3，区域熔炼炉10套。 4，单间提拉炉12套。 5，CVD 化学气相沉积设备3套。 6，PVD装置2套。 7，真空熔炼炉15套。 8，THM 移动式加热设备。 9，氯化炉3套（高纯锑专用），氢化还原炉3套。公司现有的检测设备： 1，ICP-MS;ICP-OES (适用范围：检测<99.999% 纯度的产品） 2，XRD （化合物的相结构分析） 3，激光粒度分析仪（粉末粒径） 4，对于99.9999%以上的产品，提供GDMS 外检指标（送EAG外检）研发、生产、销售：半导体材料、光电材料，货物技术的进出口业务
公司地址：萧山区萧山经济技术开发区红垦农场红垦路83号

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