トリス(トリメチルシリル)ホスフィン
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- CAS番号.
- 15573-38-3
- 化学名:
- トリス(トリメチルシリル)ホスフィン
- 别名:
- トリス(トリメチルシリル)ホスフィン;トリ(トリメチルシリル)ホスフィン;〔トリス(トリメチルシリル)〕ホスフィン;[トリス(トリメチルシリル)]ホスフィン;トリス(トリメチルシリル)ホスフィン (約10%ヘキサン溶液);10WT%トリス(トリメチルシリル)ホスフィン、ヘキサン溶液;トリス(トリメチルシリル)ホスファン;1,1,1,3,3,3-ヘキサメチル-2-(トリメチルシリル)ジシラホスファン
- 英語名:
- TRIS(TRIMETHYLSILYL)PHOSPHINE
- 英語别名:
- Tris(trimethyL;TRIMETHYLSILYL PHOSPHENE;Tri(trimethylsilyl)phosphine;TRIS(TRIMETHYLSILYL)PHOSPHINE;Tris(trimethylsilyl)phosphane;Phosphine,tris(trimethylsilyl)-;[Tris(trimethylsilyl)]phosphine,98%;Tris(trimethylsilyl)phosphine,min.98%;[Ttris(trimethylsilyl)]phosphine, 98%;Tris(trimethylsilyl)phosphine, min. 98%
- CBNumber:
- CB7126026
- 化学式:
- C9H27PSi3
- 分子量:
- 250.54
- MOL File:
- 15573-38-3.mol
- MSDS File:
- SDS
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トリス(トリメチルシリル)ホスフィン 物理性質
- 融点 :
- 24 °C
- 沸点 :
- 243-244 °C(lit.)
- 比重(密度) :
- 0.863 g/mL at 25 °C(lit.)
- 屈折率 :
- n20/D 1.502(lit.)
- 闪点 :
- -18°C
- 貯蔵温度 :
- 0-6°C
- 溶解性:
- ペンタン、ヘキサン、塩化メチレン、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル。
- 外見 :
- 液体
- 比重:
- 0.72
- 色:
- Colorless to Almost colorless
- 水溶解度 :
- 水に不溶。
- Hydrolytic Sensitivity:
- 8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
- Sensitive :
- Air & Moisture Sensitive
- CAS データベース:
- 15573-38-3(CAS DataBase Reference)
安全性情報
- リスクと安全性に関する声明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
| 絵表示（GHS） |
 
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| 注意喚起語 |
危険 |
| 危険有害性情報 |
| コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
区分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
| H250 |
空気に触れると自然発火 |
自然発火性液体;自然発火性固体 |
1 |
危険 |
|
P210, P222, P280, P302+P334,P370+P378, P422 |
| H261 |
水に触れると可燃性/引火性ガスを発生 |
水反応可燃性化学品 |
2
3 |
危険
警告 |
|
P231+P232, P280, P370+P378,P402+P404, P501 |
| H315 |
皮膚刺激 |
皮膚腐食性/刺激性 |
2 |
警告 |
|
P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362 |
| H319 |
強い眼刺激 |
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 |
2A |
警告 |
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P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P |
| H335 |
呼吸器への刺激のおそれ |
特定標的臓器毒性、単回暴露； 気道刺激性 |
3 |
警告 |
|
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| 注意書き |
| P210 |
熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。－禁煙。 |
| P231+P232 |
湿気を遮断し、不活性ガス下で取り扱うこと。 |
| P280 |
保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。 |
| P302+P334 |
皮膚に付着した場合：冷たい水に浸すこと/湿った 包帯で覆うこと。 |
| P370+P378 |
火災の場合：消火に．．．を使用すること。 |
| P422 |
内容物を．．．中で保管すること。 |
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トリス(トリメチルシリル)ホスフィン 価格
もっと(3)
| メーカー |
製品番号 |
製品説明 |
CAS番号 |
包装 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
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富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
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W01SRM15-8021 |
10wt%トリス(トリメチルシリル)ホスフィン、ヘキサン溶液
Tris(trimethylsilyl)phosphine (10 wt% in hexane) |
15573-38-3 |
10g |
￥75300 |
2024-03-01 |
購入 |
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富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01SRM15-8021 |
10wt%トリス(トリメチルシリル)ホスフィン、ヘキサン溶液
Tris(trimethylsilyl)phosphine (10 wt% in hexane) |
15573-38-3 |
50g |
￥243800 |
2024-03-01 |
購入 |
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東京化成工業
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T3453 |
トリス(トリメチルシリル)ホスフィン (約10%ヘキサン溶液)
Tris(trimethylsilyl)phosphine (ca. 10% in Hexane)
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15573-38-3 |
10g |
￥52600 |
2024-03-01 |
購入 |
トリス(トリメチルシリル)ホスフィン 化学特性,用途語,生産方法
外観
無色～ほとんど無色透明液体
化学的特性
Colorless to light yellow liqui
物理的性質
mp 24 °C; bp 243–244 °C; d 0.863 g cm?3; n20
D
1.501–1.503.
使用
Tris(trimethylsilyl)phosphine is a more stable analog of phosphine, but retains high reactivity due to the presence of the weak polar Si–P bond. It is nucleophilic and readily reacts with a range of electrophiles. Reaction with alkylating agents provides substituted phosphines, with acid chlorides phosphaalkenes can be obtained, and phosphabenzenes can be synthesized upon reaction with pyrylium salts.
It can be used as user-friendly phosphorus source and alternative to phosphine
gas, precursor of (Me3Si)2PLi, covalent synthon for the
anion P3?).
製造方法
several preparative methods are known.
These include the following: reaction of alkali metal phosphides
(NaPH2, KPH2, Li3P, usually prepared by reaction
of metal and phosphine gas or via metal alkyl derivative) with
chlorotrimethylsilane or fluorotrimethylsilane in 1,2-dimethoxyethane
or diethyl ether; reaction of sodium–potassium
alloy with white or red phosphorus in refluxing 1,2-
dimethoxyethane for 24 h followed by addition of
chlorotrimethylsilane and heating at reflux for 72 h (good
stirring is necessary for high yield of product), evaporation of
the solvent, and vacuum distillation (75% yield); reaction
of piperidinodichlorophosphine with lithium powder and
chlorotrimethylsilane in refluxing tetrahydrofuran (71%
yield); reaction of phosphine with excess of trimethylsilyl
triflate in the presence of a tertiary amine in an inert solvent
(Et2O) at low temperature (90% yield); reaction of phosphorus
trichloride, magnesium, and chlorotrimethylsilane (62%
yield). The last method is considered to be the most cost
effective and also the safest approach.
合成
Tris(trimethylsilyl)phosphine is prepared by treating trimethylsilyl chloride, white phosphorus, and sodium-potassium alloy:
1/4 P4 + 3 Me3SiCl+ 3 K → P(SiMe3)3 + 3 KCl
トリス(トリメチルシリル)ホスフィン 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
トリス(トリメチルシリル)ホスフィン 生産企業
Global( 78)Suppliers
トリス(トリメチルシリル)ホスフィン スペクトルデータ(1HNMR、FT-IR、Raman)
15573-38-3(トリス(トリメチルシリル)ホスフィン)キーワード:
- 15573-38-3
- TRIS(TRIMETHYLSILYL)PHOSPHINE
- TRIS(TRIMETHYLSILYL)PHOSPHINE 98+% (10 WT% IN HEXANE) SEA FREIGHT ITEM
- TRIS(TRIMETHYLSILYL)PHOSPHINE 98+% SEA FREIGHT ITEM
- Tris(trimethylsilyl)phosphine,min.98%
- Tris(trimethylsilyl)phosphine,min.98%(10wt%inhexane)
- TRIS(TRIMETHYLSILYL)PHOSPHINE , (10% IN HEXANE)
- [Ttris(trimethylsilyl)]phosphine, 98%
- Tris(trimethylsilyl)phosphine, min. 98%
- Tri(trimethylsilyl)phosphine
- [Tris(trimethylsilyl)]phosphine,98%
- Tris(triMethylsilyl)phosphine (10 wt% in hexane)
- Tris(trimethylsilyl)phosphane
- Phosphine,tris(trimethylsilyl)-
- Tris(trimethylsilyl)phosphine, 98+% (10% solution in hexanes)
- Tris(trimethylsilyl)phosphine (ca. 10% in Hexane)
- Tris(trimethylsilyl)phosphine, min. 98% (10 wt% in hexanes)
- Tris(trimethyL
- TRIMETHYLSILYL PHOSPHENE
- トリス(トリメチルシリル)ホスフィン
- トリ(トリメチルシリル)ホスフィン
- 〔トリス(トリメチルシリル)〕ホスフィン
- [トリス(トリメチルシリル)]ホスフィン
- トリス(トリメチルシリル)ホスフィン (約10%ヘキサン溶液)
- 10WT%トリス(トリメチルシリル)ホスフィン、ヘキサン溶液
- トリス(トリメチルシリル)ホスファン
- 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチル-2-(トリメチルシリル)ジシラホスファン