碳酸胍是一种用途极其广泛的有机合成原料和分析试剂，主要用于氨基树脂的pH调节剂、抗氧剂、树脂稳定剂和肥皂等，也用作水泥薄浆剂，表面活性剂的添加剂。还可用作洗涤剂的耐湿剂和增效剂，化妆品原料等。
一、生物化学领域中的应用
核酸提取纯化是分子生物学中的一项基本操作。目前在分子生物学或临床基因诊断中，由于离心柱法和磁珠法提取的核酸纯度较高，且能实现操作自动化，具有提取高效、便捷、大通量的优点，是未来临床诊断中核酸提取的发展方向。在实际操作中，由于胍盐具有降低溶液pH值的作用，这些细胞裂解液中的胍盐在pH值近中性或偏酸性的条件容易产生沉淀，不仅带来试剂需要加热溶解和吸取操作不方便的不足，而且影响样品中细胞裂解效果、降低了核酸提取的取得率。因此，CN102533724B专利提供了一种用于生物样品中核酸提取纯化的细胞裂解试剂，主要成分为胍盐、铵根离子和表面活性剂，其中碳酸胍作为胍盐的一种，就可以应用于该领域。
在实际操作中，由于胍盐具有降低溶液pH值的作用，这些细胞裂解液中的胍盐在pH值近中性或偏酸性的条件容易产生沉淀，不仅带来试剂需要加热溶解和吸取操作不方便的不足，而且影响样品中细胞裂解效果、降低了核酸提取的得率。
二、染发剂中的应用
近年来，以提高头发的美感为目的的染色剂被广泛使用。在毛发染色剂方面，最常用的技术是在碱剂的共存下，使用氧化染料中间体和氧化剂，使其发生氧化耦合反应而进行染发。然而，由于氧化剂容易造成毛发损伤和脆弱，如果对这些损伤或脆弱的毛发进行染色，由于头发没有弹性、强韧性和蓬松感，会使头发难以造型。
因此，CN101820852B专利开发了一种染发剂组合物，该染发剂组合物包含成分a和成分b两部分组成，其中成分a为质量份为0.1-20%的芳香族磺基化合物，成分b选自双甘氨肽、甘氨酰-甘氨酰-甘氨酸及它们的盐的至少一种，质量份为0.01-5%。本发明的染发剂组合物还可以含有碱剂，碱剂可以为碳酸胍，碱剂的含量优选为0.2-5％质量份。
三、材料领域中的应用
近年来，在车辆用与房屋用内装饰材料的领域中，由于表面有立体花纹的布具有设计性好且高级感，故其需求在增长。过去，立毛布采用压花加工或焊机加工，形成与布表面大致垂直的凹凸花纹。然而此凹凸花纹端的角度是大致垂直，设计容易变得单调，不够美观。
为了使布的表面在自然光下具有立体感，CN100425761C专利提出了一种具有立体花纹的立毛布，为了调整各区域的凹凸深度，通过使用计算机控制纤维分解液在布料的分布，使纤维分解剂的赋予量不连续地、阶段性地变化，可得到光滑的曲面的凹凸花纹。专利中纤维分解剂配方包含碳酸胍25份，水73份，丙二醇2份，使用本专利技术可使立毛布表面呈现自然石调、天然木纹调或水面波调等的凹凸花纹。
四、化学机械抛光液中的应用
随着互补金属氧化物半导体（CMOS）工艺开发的发展，器件的特征尺寸逐渐缩小，电路密度变的更加复杂，由此带来的设计和制造变得愈加困难，互连过程中的信号拥堵进一步加剧，为了延续摩尔定律，解决铜互连的延迟问题，满足性能，频宽和功耗的要求，3D IC集成技术逐渐发展起来。在垂直方向将芯片叠层，穿过有源电路直接实现高效互连，由于大大缩短了互联线的长度，不仅提高了电路性能，还进一步降低了功耗。硅通孔（TSV）技术采用化学机械抛光工艺去除金属铜。TSV制程的集成面临一个共同的难题，即TSV制作都需要打通不同材料层，包括硅材料、IC中各种绝缘或导电的薄膜层。为了提高三维集成技术的经济性，就需要在化学机械抛光过程中具有较高的去除速率和合适的抛光选择比，目前针对TSV技术的专用化学机械抛光液还没有商业化的产品报道，尤其是TSV阻挡层的抛光液。
CN103834306B专利提出了一种用于硅通孔平坦化的化学机械抛光液，解决的技术问题是满足了硅通孔平坦化过程中二氧化硅对氮化硅的去除速率选择比较高的工艺要求，防止金属抛光过程中产生的腐蚀，抛光后晶圆表面缺陷和污染物少。
专利中化学机械抛光液主要包含磨料、唑类化合物、络合剂、阴离子表面活性剂、胍、氧化剂6部分组成。其中，阴离子表面活性剂为烷基磷酸酯盐表面活性剂，胍则可以选择碳酸胍，亦或是选用多种胍。