氟化镱中文名称：三氟化镱，英文名称：Ytterbium(III) fluoride，白色结晶或结晶性粉末，微有吸湿性，应密封干燥保存。氟化镱几乎不溶于水，不溶于稀酸、多数有机溶剂，可溶于浓氢氟酸、高氯酸等强酸性含氟介质。氟化镱主要应用于稀土晶体、激光材料、红外光学材料，氟化物玻璃、光纤掺杂剂，金属镱的制备原料以及冶金添加剂、特种陶瓷组分。
研究进展
1、秦杨等人利用电子束蒸发在硅基底材料上沉积氟化镱(YbF3)薄膜,并对不同沉积温度所得薄膜进行了研究。研究结果表明,在反可见透红外波段上,沉积温度对于YbF3薄膜的物理和光学特性有较大影响，当沉积温度为150℃和180℃时,硅基底上的YbF3薄膜的光学性能和可靠性较差;当沉积温度为220℃和240℃时,硅基底上的YbF3薄膜具有良好的光学性能和可靠性,能适用于不同要求的薄膜产品研制[1]。
2、林大伟等人采用特定的工艺同一罩镀制三种不同基片倾斜角度下的氟化镱(YbF3)薄膜样品,分别采用原子力显微镜,红外分光光度计测量了单层膜的粗糙度,透射率,根据透射率值采用包络法计算了薄膜的折射率,并由堆积密度的计算公式计算了薄膜的堆积密度。测量及计算结果表明:随着基片倾斜角度即相应薄膜沉积角度的增加,薄膜的粗糙度变差,折射率及堆积密度变小[2]。
3、冯毅东等人从沉积方式、薄膜厚度、沉积温度和离子束能量四个方面,研究了沉积工艺对氟化镱(YbF3)薄膜可靠性的影响.研究结果表明,相较于电阻加热蒸发方式,用电子束加热蒸发得到的氟化镱薄膜,其致密性更好,水汽吸收更少;薄膜太厚或沉积温度太高会加大氟化镱薄膜的应力,使薄膜表面出现裂痕,甚至使薄膜脱落;离子束辅助沉积可以增加氟化镱薄膜的附着力,改善薄膜的表面质量;随着离子束能量的增加,薄膜的应力先增大后减小。根据以上研究结果得出氟化镱薄膜的最佳沉积工艺,并研制出具有良好光谱性能和高可靠性的宽光谱增透膜[3]。
参考文献
[1] 秦杨,张荣福. 不同温度制备氟化镱薄膜的工艺研究[J]. 光学仪器,2018,40(3):90-94. DOI:10.3969/j.issn.1005-5630.2018.03.016.
[2] 林大伟,黄伟,熊胜明,等. 不同沉积角度对氟化镱薄膜性质的影响[J]. 光电工程,2011,38(1):103-106. DOI:10.3969/j.issn.1003-501X.2011.01.020.
[3] 冯毅东,于天燕,刘定权. 沉积工艺对YbF3薄膜可靠性的影响[J]. 光学学报,2018,38(7):377-382. DOI:10.3788/AOS201838.0731002.