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２エチル２アダマンチル＝メタクリラト

￥30600 - ￥120000
化学名: ２エチル２アダマンチル＝メタクリラト
英語名: 2-Ethyl-2-adamantyl methacrylate
別名:２エチル２アダマンチル＝メタクリラト;2-エチル-2-メタクリロイルオキシアダマンタン;メタクリル酸2-エチル-2-アダマンチル;メタクリル酸2-エチルアダマンタン-2-イル;2-エチル-2-アダマンチル=メタクリラート;2-エチルアダマンタン-2-イル 2-メチルプロパ-2-エノアート;メタクリル酸2-エチルトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン-2-イル
CAS番号: 209982-56-9
分子式: C16H24O2
分子量: 248.36
EINECS:
MDL Number:MFCD06411144

価格3 プロパティ安全情報説明

3物価

選択条件：

ブランド

富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
東京化成工業

パッケージ

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01COBQH-5850
製品説明
英語製品説明2-Ethyl-2-adamantyl methacrylate
包装単位1g
価格￥35000
更新しました2024-03-01
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01COBQH-5850
製品説明
英語製品説明2-Ethyl-2-adamantyl methacrylate
包装単位5g
価格￥120000
更新しました2024-03-01
購入

生産者東京化成工業
製品番号E0909
製品説明2-エチル-2-メタクリロイルオキシアダマンタン >97.0%(GC)
英語製品説明2-Ethyl-2-methacryloyloxyadamantane (stabilized with MEHQ) >97.0%(GC)
包装単位5g
価格￥30600
更新しました2024-03-01
購入

生産者	製品番号	製品説明	包装単位	価格	更新時間	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01COBQH-5850	2-Ethyl-2-adamantyl methacrylate	1g	￥35000	2024-03-01	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01COBQH-5850	2-Ethyl-2-adamantyl methacrylate	5g	￥120000	2024-03-01	購入
東京化成工業	E0909	2-エチル-2-メタクリロイルオキシアダマンタン >97.0%(GC) 2-Ethyl-2-methacryloyloxyadamantane (stabilized with MEHQ) >97.0%(GC)	5g	￥30600	2024-03-01	購入

プロパティ

融点 :40 °C
沸点 :318.3±11.0 °C(Predicted)
比重(密度) :1.04±0.1 g/cm3(Predicted)
貯蔵温度 :<0°C
溶解性 :soluble in Methanol
外見 :powder to lump
色 :White to Almost white
InChI :InChI=1S/C16H24O2/c1-4-16(18-15(17)10(2)3)13-6-11-5-12(8-13)9-14(16)7-11/h11-14H,2,4-9H2,1,3H3
InChIKey :DCTVCFJTKSQXED-UHFFFAOYSA-N
SMILES :C(OC1(CC)C2CC3CC1CC(C3)C2)(=O)C(C)=C
EPAの化学物質情報 :2-Propenoic acid, 2-methyl-, 2-ethyltricyclo[3.3.1.13,7]dec-2-yl ester (209982-56-9)

安全情報

絵表示(GHS):

注意喚起語:

Warning

危険有害性情報:

コード	危険有害性情報	危険有害性クラス	区分	注意喚起語	シンボル	P コード
H315	皮膚刺激	皮膚腐食性/刺激性	2	警告		P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319	強い眼刺激	眼に対する重篤な損傷性/眼刺激性	2A	警告		P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P

注意書き:

P264	取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264	取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P280	保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用すること。

説明

2-Ethyl-2-adamantyl methacrylate is mainly used in the field of photoresist and is one of the monomers of ArF photoresist. In photoresist, EAdMA has a higher etching rate and its acid reactivity is 2.5 times that of adamantyl methacrylate (MAdMA).

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