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武汉吉和昌新材料股份有限公司

主营产品:锂电铜箔SPS ,电解液1,3-PS,炔二醇润湿剂104/110,异构醇聚氧乙烯醚1309 ,胺醚Q75,丙炔醇醚PME,阳离子季铵盐WT

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HVLP铜箔核心助剂 | 吉和昌二硫二丙烷磺酸钠SPS-H
发布日期:2026/10/26 9:14:00发布人:武汉吉和昌新材料股份有限公司阅读量:13

面向 AI 服务器、5G 毫米波、高速 PCB 产业发展带来的高端 HVLP 超低轮廓铜箔制造需求,吉和昌推出高含量二硫二丙烷磺酸钠SPS-H(CAS:27206-35-5),可适配高端铜箔生产工艺。

吉和昌SPS-H铜箔生产工艺配图(800).jpg

SPS-H品质管控严格,含量高,水溶性表现佳,槽液稳定性强,分解产物少,可稳定适配 HVLP 铜箔连续化大电流生产工况。

同时其配方兼容性优异,能够与多种整平剂、润湿剂复配使用,实现组分间协同增效,使镀层结晶细化,兼具光亮,整平作用,提高抗拉强度和延展率,优化铜箔品质,提升成品良品率,帮助企业有效控制生产综合成本。

深耕精细化工领域多年,吉和昌依托完善成熟的全产业链配套优势,建立标准化生产质控体系,具备持续稳定的规模化供货能力,可为高端铜箔制造客户提供可靠的产品供应,助力新一代高速通信与算力硬件材料产业化落地。




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