CaF2 晶体具备众多的优异特性:紫外透过率高、应力双折射低、激光损伤阈值高、平均折射率和局部折射率恒定、物理化学性能稳定。其用作光刻机透镜可使157 nm光刻芯片的线宽降到 50 nm及以下,也可能满足超小、超快、低能芯片更高的性能要求,成为下一代光刻系统的首选材料。然而准分子激光光刻对透镜材料纯度的要求非常高,微量的杂质可能会对其性能造成很大的影响。要生长高质量的光刻系统用CaF2晶体,首要的问题是制备出纯度足够高的CaF2原料。另外,CaF2 (萤石)能降低难熔物质的熔点,促进炉渣流动,使渣和金属很好分离,在冶炼过程中脱硫、脱磷,增强金属的可煅性和抗张强度等特点。CaF2还广泛应用于荧光材料、药物载体、激光陶瓷、齿科修复、抗反射涂层、饰品工艺等领域。目前实验室已完成光学级氟化钙制备工艺研究,纯度99.99%,氧含量小于200 ppm。亟需开展几十吨级规模生产,满足市场高纯晶体原料需求
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