三甲基锑是一种高纯度、高活性的特种电子气体/液体,是先进半导体制造产业链中不可或缺的关键原材料之一。其价值在于能够实现精确的原子级薄膜沉积,从而制造出高性能的微电子和光电子器件。然而,其固有的高毒性、易燃性和反应活性要求在整个生命周期(运输、储存、使用和处理)中都必须进行极其严格和专业的安全管理。
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