作为光刻(photoresist)单体之一,用于微电子、半导体材料、光刻树脂等领域
在涂料、粘接剂、光敏材料、功能性树脂中,也可能被用作共聚单体以调节聚合物的性能(刚性、耐热性等)
• 避免高温、火源、静电和明火 • 操作时须佩戴适当防护,如防化手套、护目镜、面罩等 • 储存应于通风良好、阴凉处,远离氧化剂和强酸碱等不兼容物质
泄漏 / 处置:应使用惰性吸附剂(如硅藻土)吸收泄漏物,并按危险化学废物处理法规妥善处置
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