作为光致产酸剂,该化合物在紫外光或电子束照射下释放强酸,催化光刻胶树脂的酸敏反应,用于半导体光刻工艺中高精度图案的制备。具有高热稳定性和低酸扩散特性。在阳离子光聚合体系中作为引发剂,用于UV固化涂料、油墨等
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