N-亚硝基-N-去甲基特比萘芬
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产品编号:T026032
英文名:N-Nitroso-N-Desmethyl Terbinafine
英文别名:(E)-N-(6,6-dimethylhept-2-en-4-yn-1-yl)-N-(naphthalen-1-ylmethyl) nitrous amide(注:核心结构含 (E)- 构型的 2 - 烯 - 4 - 炔不饱和键、6,6 - 二甲基庚烷基链、N - 萘甲基 - N - 亚硝基胺基,是特比萘芬(丙烯胺类抗真菌药)合成或储存阶段,其代谢中间体 N - 去甲基特比萘芬发生亚硝化反应生成的基因毒性杂质,区别于特比萘芬的 N - 甲基胺基结构及 N - 去甲基特比萘芬的无亚硝基取代特征)
CAS 号:无
分子式:C20H22N2O
分子量:306.40
基因毒性杂质专属质控特性:纯度经 UPLC-MS/MS 与气相色谱联用技术双重验证,纯度≥98.5%,无基因毒性检测专属通道干扰峰,明确含 (E)- 烯炔键、亚硝基(-NO)、萘甲基胺基特征结构,与特比萘芬主峰及常规工艺杂质分离度>2.5,可作为基因毒性杂质的专属对照品,满足 ICH M7 指导原则下的痕量质控需求。
稳定性适配基因毒性杂质检测场景:在避光、低温(2-8℃)、氮气密封储存条件下,(E)- 构型无顺反异构化风险,亚硝基胺结构无分解或重排反应,可稳定保存 12 个月以上,能保障多批次痕量检测数据的重复性,适配特比萘芬原料药及乳膏、片剂的基因毒性杂质长期监控需求。
痕量检测兼容性优异:易溶于甲醇、乙腈、二氯甲烷,可溶于乙腈 - 水(含 0.05% 氨水)混合溶剂;通过超高效液相色谱 - 串联质谱(UPLC-MS/MS)多反应监测模式,可实现 0.0008 μg/mL 级别的痕量检出,远低于 ICH M7 规定的每日允许暴露量(PDE)限值,满足基因毒性杂质的高灵敏度检测要求。
基因毒性杂质监控核心场景:用于特比萘芬原料药及制剂的质量控制,重点监测合成过程中 N - 去甲基特比萘芬中间体亚硝化、或储存阶段原料 / 制剂接触亚硝酸盐污染物生成的该杂质含量 —— 作为临床常用抗真菌药,特比萘芬需符合 ICH M7、EP、USP 对基因毒性杂质的严格限量要求(PDE 值通常<10 μg / 天),精准检测可规避因杂质超标引发的用药安全风险。
合成与储存工艺优化参照:辅助排查杂质生成源头,例如特比萘芬合成中使用含亚硝酸盐的溶剂、反应体系引入含氮氧化物的氧化剂,或制剂储存环境光照 / 湿度异常导致的亚硝化降解等问题;通过严控原料亚硝酸盐含量(<0.0005%)、采用惰性气体保护合成体系、选用避光防潮包材,可显著降低该杂质的生成量。
检测方法开发与验证:作为标准品用于 UPLC-MS/MS 基因毒性杂质检测方法的验证,确认方法的定量限(LOQ≤0.0004 μg/mL)、回收率(85%-115%)及基质效应(≤±12%);针对乳膏类制剂的油脂基质干扰,可采用液液萃取法净化样本,结合特征离子对 m/z 307.2→141.1 的多反应监测模式,提升痕量检测的准确性。
检测技术成熟度:当前主流检测方法为 UPLC-MS/MS 多反应监测模式,采用 C18 超高效色谱柱(如 Waters Acquity UPLC BEH C18),以乙腈 - 0.01 mol/L 醋酸铵缓冲液(pH 5.0)为流动相梯度洗脱,监测特征离子对 m/z 307.2([M+H]+)→141.1(失去萘甲基片段),定量限(LOQ)可达 0.0003 μg/mL,满足 ICH M7 对基因毒性杂质的痕量检测要求;对于复杂基质制剂,可结合固相萃取(SPE)技术实现样本净化,消除基质干扰。
生成机制与控制策略:研究证实,该杂质生成量与 “亚硝酸盐浓度” 及 “储存条件” 直接相关 —— 原料中亚硝酸盐含量>0.0005% 时,合成环节杂质生成量会突破 PDE 限值;储存环境温度>30℃且相对湿度>60% 时,6 个月内杂质增幅可达 8 倍以上。工艺控制方向已明确为 “采用高纯度无亚硝酸盐溶剂、合成后经专属纯化步骤去除中间体”,储存控制则需采用铝塑复合膜避光防潮包装,仓储温度控制在 25℃以下。
安全性与标准进展:毒理学研究显示,该杂质 Ames 试验呈阳性,具有明确致突变性,其 PDE 值经计算为 7.5 μg / 天;目前,EP、USP 在特比萘芬质量标准中已将其列为重点监控的基因毒性杂质,明确了 UPLC-MS/MS 检测方法及限度(≤0.00015%);国内药典 2025 年版修订稿也已纳入该杂质的质控指标,现有研究为基因毒性杂质的风险评估与合规质控提供了核心依据。
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杜经理