四(二甲氨 基)铪,Tetrakis(dimethylamino)hafnium
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四(二甲氨 基)铪 CVD/ALD材料

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发货地 上海
更新日期 2026-04-14

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中文名称:四(二甲氨 基)铪英文名称:Tetrakis(dimethylamino)hafnium
CAS:19782-68-4品牌: 凌颢金属
产地: 上海纯度规格: 99.999%
2026-04-14 四(二甲氨 基)铪 Tetrakis(dimethylamino)hafnium 50g/RMB;500g/RMB;1000g/RMB 凌颢金属 上海 99.999%

1.原子层沉积(ALD)与化学气相沉积(CVD)前驱体‌

用于在基底材料上沉积‌高介电常数(high-k)的氧化铪(HfO₂)薄膜‌,替代传统二氧化硅(SiO₂)作为晶体管栅极介质,有效减少漏电流和功耗,适用于‌45nm及以下先进CMOS工艺‌‌

2.半导体器件制造‌

用于‌DRAM、RRAM(阻变存储器)、FeRAM(铁电存储器)、FeFET(铁电场效应晶体管)‌等新型存储器件的绝缘层或功能层制备‌

在‌FinFET、GAA(环绕栅极)晶体管‌等纳米级结构中作为关键材料‌

3‌.边缘钝化处理(光伏电池)‌

在‌半片太阳能电池切割后‌,通过ALD/CVD在边缘沉积‌氧化铪薄膜‌,减少电学复合和漏电,提升电池转换效率‌

4.光学与纳米复合材料‌

可用于制备‌光学涂层‌、‌纳米复合材料‌等特殊功能薄膜‌

5.铪基合金与掺杂薄膜‌

与其他前驱体配合,可沉积‌稀土掺杂氧化铪‌(如Ce:HfO₂),拓展至多铁性、铁电性等功能材料领域‌


关键字: 厂家直销;高纯;

公司简介

上海凌颢金属材料有限公司成立于2010年,地处长三角G60科技走廊的上海松江区。作为金属生产制作综合服务运营商,公司专注于有色金属材料深加工及纳米、亚微米陶瓷粉体等相关产品的研发、生产与应用。 作为高新技术企业,凌颢金属始终坚持科技引领、创新兴企的宗旨。公司拥有一支实力雄厚的研发团队,包括2名博导、1名博士和3名硕士,共取得5项发明专利及15项实用新型专利。同时,与上海硅酸盐研究所、中国军事科学院等国内著名科研院所及军工集团建立长期稳定合作关系。为保证产品质量,配备了扫描型X射线荧光光谱仪等多种专用检测仪器。 凌颢金属秉承质量求存、团结拼搏、诚信为本的文化理念。公司以先进的生产技术设备为保障,在航空航天特种粉体材料领域不断推陈出新,致力于取代进口产品,保障国家自主安全。目前,公司产品已广泛应用于国防、航空航天、电子信息等高新技术领域,为客户提供一站式服务体系,以专业的综合服务赢得市场认可。
成立日期 2010-01-18 (17年) 注册资本 5000000
员工人数 1-10人 年营业额 ¥ 1000万-5000万
主营行业 合成材料中间体,高纯试剂,溶剂,催化试剂,基础有机试剂 经营模式 工厂
  • 上海凌颢金属材料有限公司
VIP 1年
  • 公司成立:17年
  • 注册资本:5000000
  • 企业类型:有限责任公司
  • 主营产品:铌粉 钽粉 铼粉 钒粉 氧化铌 草酸铌 乙醇铌 乙醇钽 氧化钽 氧化铯 氧化铪
  • 公司地址:沈砖路5100号
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