分子量:542.39 g/mol
【物理化学性质】
1. 分解温度:> 200 ℃,热稳定性优异;
2. 光敏特性:在深紫外光区有高效吸收,能高效生成活性酸;
3. 溶解性:可溶于光刻胶常用溶剂,如PGMEA、丙酮、乙腈等;
4. 储存条件:需在低温、避光、惰性气氛下保存,防止光照分解;
5. 形态:白色粉末或固体,便于配方分散。
【应用领域】
1. 半导体光刻胶:作为光致产酸剂应用于193nm ArF光刻胶、EUV光刻胶,支持高分辨率和低线边粗糙度(LWR);
2. 显示材料:用于液晶显示、OLED及光敏绝缘膜的制备;
3. 微电子加工:适用于干法刻蚀、微纳米结构制备等先进制程工艺;
4. 特种高分子材料:作为光敏功能单体引发剂或催化剂,用于微结构聚合物及功能薄膜制备。
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吴经理