13709-61-0

中文名称二氟化氙

英文名称 XENON DIFLUORIDE

CAS 13709-61-0

分子式 F2Xe

分子量 169.29

MOL 文件 13709-61-0.mol

更新日期 2024/04/19 11:21:01

13709-61-0 结构式

基本信息物理化学性质安全数据常见问题列表

基本信息

中文别名

二氟化氙

英文别名

XeF4
Difluoroxenon
Tetrafluoroxenon
XENON DIFLUORIDE
XENON(II)FLUORIDE
xenon tetrafluoride
Tetrafluoroxenon(IV)
Xenon fluoride (XeF4)
Xenon(IV) tetrafluoride
Xenon fluoride (XeF4), (T-4)-

所属类别

有机原料：有机氟化合物

物理化学性质

熔点129 °C(lit.)

沸点115.73°C (estimate)

密度4.32 g/mL at 25 °C(lit.)

蒸气压3.8 mm Hg ( 25 °C)

溶解度reacts with H2O

形态无色单斜晶体

颜色colorless monoclinic crystals, crystalline

水溶解性reacts violently with H2O, forming Xe, O2, HF, and XeO3 [DOU83]

安全数据

危险品标志O,T+

危险类别码8-25-26-34

安全说明17-26-28-36/37/39-45

危险品运输编号UN 3087 5.1/PG 2

WGK Germany3

RTECS号ZE1294166

F1-10

危险等级5.1

包装类别I

常见问题列表

概述

无色透明四方晶体。相对密度4.32(25/4℃)，熔点129℃，固体蒸气压为4.6×133.322Pa(25℃)。蒸气也是无色的，有恶臭。易溶于无水氟化氢、氟化亚硝酰•三(氟化氢)和五氟化碘，但不发生电离。能被氢还原生成氙和氟化氢。与氟反应生成四氟化氙或六氟化氙。遇水则水解，过程很复杂。在日光直射下，氙与氟反应而制得。

用途

制备一种二氟化氙气相刻蚀阻挡层，包括如下步骤：(1)将二氟化氙气体喷洒到裸露的阻挡层的表面；(2)采用光束仅照射电介质层上表面的阻挡层，使电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率高于沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层的刻蚀速率。本发明通过向电介质层上表面的阻挡层照射光束，提高了电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率，使电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率高于沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层的刻蚀速率，避免沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层过度刻蚀，提高了微观上的刻蚀均匀性，达到了更好的工艺效果。