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氧化钽溅射靶

氧化钽溅射靶, , 结构式
氧化钽溅射靶
CAS号:
英文名:
Tantalum (V) oxide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 3.18mm (0.13in) thick, 99.99% (metals basis)
英文别名:
Tantalum (V) oxide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 3.18mm (0.13in) thick, 99.99% (metals basis)
中文名:
氧化钽溅射靶
中文别名:
氧化钽溅射靶
CBNumber:
CB22078243
分子式:
O5Ta2
分子量:
441.8928
MOL File:
Mol file

氧化钽溅射靶化学性质

安全信息

氧化钽溅射靶性质、用途与生产工艺

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