三乙基锑新闻专题

金属有机化学气相沉积（简称MOCVD）技术是制造半导体超薄型膜材料的先进方法。化合物半导体材料在激光技术、卫星通讯、全球定位系统、太阳能电池等领域得到广泛的应用。高纯金属有机化合物（即MO源）是MOCVD技术的关键支撑材料。高纯三乙基锑为AlSb、GaSb、InSb等半导体材料提供锑源，是金属有机化学气相沉积技术（MOCVD），化学束外延（CBE）过程中生长光电材料最重要的源之一。