磷霉素非对映体杂质2;
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产品编号:F042002
英文名:Fosfomycin Diastereomer Impurity 2
英文别名:((2R,3R)-3-methyloxiran-2-yl) phosphonic acid(注:核心结构为 (2R,3R) 构型的 3 - 甲基环氧乙烷 - 2 - 基膦酸,含环氧环与膦酸基特征基团,是磷霉素(广谱抗生素)合成中手性控制偏差生成的非对映异构体杂质,区别于磷霉素的 (2R,3S) 活性构型)
CAS 号:45629-00-3
分子式:C3H7O4P
分子量:138.06
手性构型专属与纯度双优:纯度经手性 HPLC 与 31P-NMR 双重验证,明确含 (2R,3R) 非对映异构体构型、环氧环及膦酸基结构,与磷霉素主峰((2R,3S) 活性构型)差异显著,可作为手性杂质专属对照,避免与膦酸酯衍生物、去甲基杂质等交叉干扰,确保定性定量结果精准。
稳定性适配抗生素检测场景:在避光、干燥、常温(15-25℃)储存条件下,环氧环无明显开环风险,膦酸基不易发生酯化或脱质子反应,手性构型无消旋现象,能保障多批次检测数据的重复性与准确性,适配磷霉素原料药及注射剂的长期质量监控需求。
溶解性与分离性能优异:分子含强极性膦酸基(易溶于水、甲醇),也可溶于乙腈 - 水混合溶剂;通过手性 HPLC(如 Chiralpak ZWIX (+) 柱),以磷酸盐缓冲液 - 乙腈梯度洗脱,能与磷霉素主峰及制剂辅料(如氯化钠、注射用水微量杂质)实现基线分离,检测限可达 μg 级,满足手性杂质常规监控要求。
核心杂质监控场景:用于磷霉素原料药及注射剂的质量控制,重点监测 (2R,3R) 非对映异构体杂质含量 —— 作为广谱抗生素(治疗革兰氏阳性菌与阴性菌感染),磷霉素的抗菌活性依赖 (2R,3S) 特定手性构型,该非对映异构体无抗菌活性,精准检测可避免杂质超标降低药效(稀释活性成分浓度)或增加肾脏代谢负担(尤其针对儿童、老年人患者)。
合成工艺优化参照:辅助排查杂质生成源头,例如磷霉素合成中 “环氧丙烷环化反应” 手性催化剂选择性不足、反应温度过高(>50℃)导致构型翻转、原料 “2 - 羟基丙基膦酸” 含手性杂质等问题,通过选用高选择性 chiral salen-Co (Ⅲ) 催化剂、控制反应温度(30-40℃)、增加手性精制步骤,减少该非对映异构体生成量。
检测方法开发与验证:作为标准品用于手性 HPLC 或 LC-MS 检测方法的验证,确认线性范围(通常 0.1-20 μg/mL)、回收率(95%-105%)及手性分离度(Rs>1.5)—— 针对注射剂离子干扰,可通过 31P-NMR(化学位移 δ 18.5 ppm,区别于磷霉素的 δ 17.5 ppm)实现定性定量,提升检测特异性。
检测技术成熟度:当前主流检测方法为手性 HPLC-UV,采用 Chiralpak ZWIX (+) 手性柱,以 0.05 mol/L 磷酸二氢钾缓冲液(pH 3.0)- 乙腈(95:5)为流动相,检测波长 210 nm(膦酸基特征吸收),可实现 (2R,3R) 与 (2R,3S) 构型基线分离,定量限(LOQ)达 0.05 μg/mL,满足 “手性杂质限量<0.5%” 常规要求;痕量分析可通过 LC-MS/MS 监测 m/z 139.0([M+H]+)及特征碎片峰 m/z 93.0(失去环氧环片段),灵敏度提升至 ng 级,规避其他膦酸类杂质干扰。
生成机制明确性:研究证实,杂质生成与 “环氧环化反应手性选择性” 直接相关 —— 手性催化剂配体位阻(如 salen 配体取代基)、反应温度及溶剂极性是关键因素:配体位阻越小、温度>50℃、溶剂极性越强(如甲醇),非对映异构体生成量越多;使用大位阻 salen-Co (Ⅲ) 催化剂、在二氯甲烷(弱极性溶剂)中 30-40℃反应,可将该杂质含量控制在 0.1% 以下。
安全性与标准进展:毒理学研究显示,该非对映异构体无急性毒性,对细菌 MurA 酶无抑制活性(无抗菌作用),长期高剂量暴露无明显器官损伤;目前,USP(美国药典)、EP(欧洲药典)已在磷霉素质量标准中明确该手性杂质监控要求,建议限量<0.5%,FDA 在磷霉素注射剂质量指南中也将其列为重点关注手性杂质,现有研究数据为标准制定与检测方法验证提供核心依据。
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杜经理