999-97-3
中文名称
六甲基二硅氮烷
英文名称
Hexamethyldisilazane
CAS
999-97-3
EINECS 编号
213-668-5
分子式
C6H19NSi2
MDL 编号
MFCD00008259
分子量
161.39
MOL 文件
999-97-3.mol
更新日期
2024/04/24 17:02:45
999-97-3 结构式
基本信息
中文别名
六甲基二硅氮烷六甲基二硅烷胺
六甲基二硅亚胺
1,1,1-三甲基-N-(三甲基甲硅烷基)硅烷胺
六甲基二硅氨烷
六甲基二硅胺
六甲基二硅胺烷
药用硅氮烷
六甲基二硅基胺
1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷
1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷电子级
六甲基二矽氯烷
六甲二矽烷
六甲基二硅烷胺(HMDS)
六甲基二硅杂氮烷, 98+%
1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷, ELECTRONIC GRAD
六甲基二硅杂氮烷, ELECTRONIC GRADE, 99+%
英文别名
1,1,1,3,3,3-HEXAMETHYLDISILAZANE1,1,1-Trimethyl-N-(trimethylsilyl)silanamine
BIS(TRIMETHYLSILYL)AMINE
HEXAMETHYLDISILAZANE
hexamethyl disilizane
HEXAMETHYLDISILYLAMINE
HMDS
LABOTEST-BB LT01408762
SILAZANE HMN
((CH3)3Si)2NH
1,1,1,3,3,3-hexamethyl-disilazan
1,1,1-trimethyl-n-(trimethylsilyl)-silanamin
Disilazane, 1,1,1,3,3,3-hexamethyl-
hexamethyldisilazane(hmds)
hexamethylsilazane
sz6079
Trimethyl-N-(trimethylsilyl)silanamine
tsl8802
1,1,1,3,3,3-Hexamithyl disilazane
(dimethyl-trimethylsilylamino-silyl)methane
所属类别
有机原料：有机硅化合物物理化学性质
外观性质无色、透明、易流动液体。
外观性状无色透明易流动液体。沸点125℃，相对密度0.76（20/4℃）。溶于有机溶剂，与空气接触会迅速被水解生成三甲硅烷醇和六甲基二硅醚。闪点-1℃。
溶解性溶于多数有机溶剂。
熔点-78 °C
沸点125 °C(lit.)
密度0.774 g/mL at 25 °C(lit.)
蒸气密度4.6 (vs air)
蒸气压20 hPa (20 °C)
折射率n20/D 1.407(lit.)
闪点57.2 °F
储存条件2-8°C
溶解度与丙酮、苯、乙醚、庚烷和全氯乙烯混溶。
酸度系数(pKa)30(at 25℃)
形态液体
比重0.774
颜色无色
气味 (Odor)氨气味
酸碱指示剂变色ph值范围8.5
爆炸极限值(explosive limit)0.8-25.9%(V)
水溶解性REACTS
敏感性湿气敏感
水解敏感性7: reacts slowly with moisture/water
Merck14,4689
BRN635752
InChIKeyFFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N
LogP0.23-1.19 at 20-25℃
存储注意事项氮气保护;湿度敏感
EPA化学物质信息Hexamethyldisilazane (999-97-3)
安全数据
警示词危险
危险品标志F,C
危险类别码R11-R20/21/22-R34
危险品运输编号UN 3286 3/PG 2
WGK Germany2
RTECS号JM9230000
F21
自燃温度325 °C
Hazard NoteFlammable
TSCAYes
危险等级3
包装类别II
海关编码29319090
毒性LDLO i.p. in mice: 650 mg/kg (Petrarch Systems Inc. Product Information Sheets)
应用领域
用途一
特种有机合成。阿米卡星、盘尼西林、头孢霉素、氟尿嘧啶及各种青霉素衍生物等合成过程中的甲硅烷基化。硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理。半导体工业中光致刻蚀剂的粘结助剂。用途二
为阿米卡星药用中间体，是羟基及氨基保护剂用途三
用于生产橡胶、药物。该品是消减气相色谱载体表面吸附活的减尾剂。用途四
碱性硅烷化保护剂，无机填料处理剂制备方法
方法一
将109g（1.0mol）三甲基氯硅烷溶于500ml无水乙醚，通入氨气，立即出现白色沉淀。加热至回流，慢慢通氨维持6h，使氯化铵沉降、过滤，取乙醚溶液先蒸出乙醚，再蒸出六甲基二硅氨烷，得52.5g，收率65%。999-97-3(安全特性,毒性,储运)
储运特性
库房通风低温干燥; 与氧化剂、酸类分开存放毒性分级
中毒急性毒性
口服- 大鼠 LD50: 850 毫克/ 公斤; 口服- 小鼠 LDL0: 850 毫克/ 公斤可燃性危险特性
遇明火、高温、氧化剂易燃; 遇水分解有毒硅化物气体; 燃烧产生有毒氮氧化物烟雾类别
易燃液体灭火剂
干粉、干砂、二氧化碳、泡沫、1211灭火剂常见问题列表
有机硅化合物
六甲基二硅氮烷，英文缩写HMDS，一种重要的有机硅化合物，最常用来增加光刻胶在品圆表面附着力的底漆层，易燃且燃点为6.7℃，当在空气中的浓度为0.8%-16%时具有爆炸性，HMDS会强烈地与水、酒精和矿物质酸反应释放出氨水NH3，生成六甲基二硅醚。在催化剂存在下，与醇或酚反应，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷。与无水氯化氢反应，放出NH3或NH4Cl，生成三甲基氯硅烷。光刻胶应用
六甲基二硅氮烷 (HMDS) 底涂通常在应用光刻胶之前使用。1970 年，IBM 的 RH Collins 和 FT Devers 在美国专利 3,549,368 中首次描述了 HMDS 作为光刻胶粘合促进剂的用途。该工艺已从基于将晶圆浸入 HMDS 溶液中的做法逐步发展为基于蒸汽的过程。尽管可以通过旋涂将 HMDS 涂敷在晶圆上，但通常不推荐这样做，因为 HMDS 厚层的蒸汽蒸发会在后期造成问题。最典型的 HMDS 应用在真空室中，该真空室将基板的加热与暴露于 HMDS 蒸气相结合。
HMDS提高了光刻胶的附着力
由于从环境湿度中吸收了一层水，硅晶片的表面通常是亲水的。为了光刻胶的适当粘附，需要使表面更疏水以更好地匹配光刻胶的化学性质。该过程的第一步称为脱水烘烤。顾名思义，该步骤的目的是去除晶圆表面的水分。此步骤通常在真空中进行，需要大约 140 至 160 °C 的温度。如果不去除水层，则在后续显影或化学蚀刻过程中存在光刻胶分层的风险。然而，在这一步之后，晶圆表面仍然是亲水的，因为脱水使表面恢复到自然状态。在原生状态下，硅晶片的顶部有一层薄薄的天然氧化物，当暴露在大气湿度下时会形成。在化学上，这被视为硅表面的 OH 基团。为了使光刻胶正确粘附，表面需要更疏水（防水）。
脱水烘烤从晶圆表面去除多余的材料（即吸附的水），而 HMDS 处理将添加单层材料，使其对光刻胶更具吸引力。脱水烘烤后，表面暴露于蒸汽 HMDS，通常在设置为 130 至 160 °C 的热底漆烘箱中。晶圆表面的 OH 基团会与 HMDS 的甲基发生反应，从而使表面更加疏水。表面会更好地与光刻胶的化学成分相匹配，但也不易吸水。
危险性
六甲基二硅氮烷是主危3类副危6.1类/8类的危险货物，具有以下危险性质：易燃液体和蒸气，吞咽有害、皮肤接触会中毒，吸入会中毒。
其蒸气与空气可形成爆炸性混合物，遇明火、高热极易燃烧爆炸，爆炸极限范围0.8%-16.3%。
与氧化剂接触猛烈反应。遇水和甲醇发生化学反应而分解。
知名试剂公司产品信息
Acros Organics
六甲基二硅氮烷1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane, 98%(999-97-3)
Sigma Aldrich
999-97-3(sigmaaldrich)