硅化钒
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- CAS号:
- 12039-87-1
- 英文名:
- VANADIUM SILICIDE
- 英文别名:
- VANADIUM SILICIDE;VANADIUM DISILICIDE;Vanadiumsilicidemesh;vanadium(IV) silicide;bis(λ2-silanylidene)vanadium;VANADIUM SILICIDE -325 MESH;Beryllium (Be) Sputtering Targets;VANADIUM SILICIDE: 99.5%, -325 MESH;VANADIUM SILICIDE ISO 9001：2015 REACH;VANADIUM SILICIDE, 99.5% (METALS BASIS)
- 中文名:
- 硅化钒
- 中文别名:
- 硅化钒;二硅化钒
- CBNumber:
- CB2472843
- 分子式:
- Si2V
- 分子量:
- 107.11
- MOL File:
- 12039-87-1.mol
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硅化钒化学性质
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熔点:
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1677 °C
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密度:
-
4.420
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溶解度:
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soluble in HF
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形态:
-
metallic prisms
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颜色:
-
metallic prisms
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电阻率 (resistivity):
-
9.5 (ρ/μΩ.cm)
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水溶解性:
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soluble HF [KIR83]
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晶体结构:
-
Hexagonal
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EPA化学物质信息:
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Vanadium silicide (VSi2) (12039-87-1)
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硅化钒性质、用途与生产工艺
硅化物是制备大规模集成电路的关键材料，用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线，超大规模集成电路结深很浅，如64 兆位的超大规模集成电路的PN 结深度浅到200nm ，在如此浅结表面用常规的方法制备电极引线，经常导致PN 结穿通，使电路失效，为此则需要制备薄层硅化物，其中硅化钒是一种最好的选择。
硅化物是制备大规模集成电路的关键材料，用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线，超大规模集成电路结深很浅.硅化钒的主要用途如下：1.制备硅化钒薄膜。2.制备一种吸声陶瓷材料。
生产方法
在一直流等离子电弧炉中，加热V和Si的单质粉末。
硅化钒
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