ChemicalBook
Chinese english Japan Germany

四窒化三ゲルマニウム

四窒化三ゲルマニウム price.
  • ¥35800 - ¥35800
  • 化学名: 四窒化三ゲルマニウム
  • 英語名: GERMANIUM NITRIDE
  • 別名:四窒化三ゲルマニウム;窒化ゲルマニウム(III);窒化ゲルマニウム(IV)
  • CAS番号: 12065-36-0
  • 分子式: Ge3N4
  • 分子量: 273.95
  • EINECS:235-064-0
  • MDL Number:MFCD00016118
1物価
選択条件:
ブランド
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 5g
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番号447552
  • 製品説明窒化ゲルマニウム(III) ≥99.99% trace metals basis
  • 英語製品説明Germanium(III) nitride ≥99.99% trace metals basis
  • 包装単位5g
  • 価格¥35800
  • 更新しました2023-06-01
  • 購入
生産者 製品番号 製品説明 包装単位 価格 更新時間 購入
Sigma-Aldrich Japan 447552 窒化ゲルマニウム(III) ≥99.99% trace metals basis
Germanium(III) nitride ≥99.99% trace metals basis
5g ¥35800 2023-06-01 購入

プロパティ

融点  :>850 °C (dec.)(lit.)
比重(密度)  :5.35 g/mL at 25 °C(lit.)
溶解性 :insoluble in H2O, acid solutions, aquaregia
外見  :orthorhombic crystals
比重 :5.35
色 :orthorhombic crystals, crystalline
水溶解度  :insoluble H2O; does not react with most mineral acids, aqua regia or caustic solutions [KIR78] [CRC10]
EPAの化学物質情報 :Germanium nitride (Ge3N4) (12065-36-0)

安全情報

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報:
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
注意書き:
P261 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーの吸入を避ける こと。
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P271 屋外または換気の良い場所でのみ使用すること。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P302+P352 皮膚に付着した場合:多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

説明

Germanium nitride (Ge3N4) does not occur in nature as a compound. It can be produced by reacting germanium with ammonia. It can be applied as a passivation layers to germanium-based radiation detectors. Germanium Nitride is reported to be used as a water-insoluble gate dielectric film in metal oxide semiconductor field effect transistor with germanium channel.2 It is used in etchant formulation, which was originally developed for silicon oxynitride.3

関連商品価格