四(二甲氨基)锆是一种高性能、对空气敏感的金属有机化合物,是现代微电子工业和先进材料领域的关键前驱体材料。其最主要的价值在于通过ALD/CVD技术沉积高质量的氧化锆等高k介质薄膜,是推动半导体器件持续微缩和性能提升的重要基础材料之一。由于其高反应性,对其储存、运输和操作均有极其严格的要求。
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