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ヘキシルホスホン酸

ヘキシルホスホン酸 price.
  • ¥6300 - ¥169100
  • 化学名: ヘキシルホスホン酸
  • 英語名: N-HEXYLPHOSPHONIC ACID
  • 別名:ヘキシルホスホン酸;n-ヘキシルホスホン酸;n-ヘキシルホスホン酸, min. 97% HPA
  • CAS番号: 4721-24-8
  • 分子式: C6H15O3P
  • 分子量: 166.16
  • EINECS:
  • MDL Number:MFCD00013961
8物価
選択条件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 東京化成工業
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 1g
  • 2g
  • 5g
  • 10g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF044121
  • 製品説明n-ヘキシルホスホン酸
  • 英語製品説明n-Hexylphosphonic acid
  • 包装単位10g
  • 価格¥169100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01SRM15-2410
  • 製品説明n-ヘキシルホスホン酸, min. 97% HPA
  • 英語製品説明n-Hexylphosphonic acid, min. 97% HPA
  • 包装単位5g
  • 価格¥86000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF044121
  • 製品説明n-ヘキシルホスホン酸
  • 英語製品説明n-Hexylphosphonic acid
  • 包装単位2g
  • 価格¥46700
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01SRM15-2410
  • 製品説明n-ヘキシルホスホン酸, min. 97% HPA
  • 英語製品説明n-Hexylphosphonic acid, min. 97% HPA
  • 包装単位1g
  • 価格¥21900
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者東京化成工業
  • 製品番号H1551
  • 製品説明ヘキシルホスホン酸 >98.0%(T)
  • 英語製品説明Hexylphosphonic Acid >98.0%(T)
  • 包装単位1g
  • 価格¥6300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者東京化成工業
  • 製品番号H1551
  • 製品説明ヘキシルホスホン酸 >98.0%(T)
  • 英語製品説明Hexylphosphonic Acid >98.0%(T)
  • 包装単位5g
  • 価格¥21900
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番号750034
  • 製品説明 95%
  • 英語製品説明Hexylphosphonic acid 95%
  • 包装単位5g
  • 価格¥35100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番号750034
  • 製品説明 95%
  • 英語製品説明Hexylphosphonic acid 95%
  • 包装単位1g
  • 価格¥7630
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
生産者 製品番号 製品説明 包装単位 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF044121 n-ヘキシルホスホン酸
n-Hexylphosphonic acid
10g ¥169100 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01SRM15-2410 n-ヘキシルホスホン酸, min. 97% HPA
n-Hexylphosphonic acid, min. 97% HPA
5g ¥86000 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF044121 n-ヘキシルホスホン酸
n-Hexylphosphonic acid
2g ¥46700 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01SRM15-2410 n-ヘキシルホスホン酸, min. 97% HPA
n-Hexylphosphonic acid, min. 97% HPA
1g ¥21900 2024-03-01 購入
東京化成工業 H1551 ヘキシルホスホン酸 >98.0%(T)
Hexylphosphonic Acid >98.0%(T)
1g ¥6300 2024-03-01 購入
東京化成工業 H1551 ヘキシルホスホン酸 >98.0%(T)
Hexylphosphonic Acid >98.0%(T)
5g ¥21900 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 750034 95%
Hexylphosphonic acid 95%
5g ¥35100 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 750034 95%
Hexylphosphonic acid 95%
1g ¥7630 2024-03-01 購入

プロパティ

融点  :108-110°C
沸点  :299.7±23.0 °C(Predicted)
比重(密度)  :1.132±0.06 g/cm3(Predicted)
溶解性 :soluble in Methanol
酸解離定数(Pka) :2.66±0.10(Predicted)
外見  :Powder
色 :White to off-white
水溶解度  :Insoluble in water.
Hydrolytic Sensitivity :4: no reaction with water under neutral conditions

安全情報

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報:
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
注意書き:
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P302+P352 皮膚に付着した場合:多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P332+P313 皮膚刺激が生じた場合:医師の診断/手当てを受けるこ と。
P337+P313 眼の刺激が続く場合:医師の診断/手当てを受けること。

説明

n-Hexylphosphonic acid is used in the manufacturing of nanoparticles such as quantum dots, nano-metals and nano-ceramics. It is also used for coating of many materials, including nanoparticles by condensed hydrophobic monolayers.

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