四氟甲烷(CF4)是目前微电子工业中用量的等离子蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蚀刻。同时，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料等行业。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格将会长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广阔的发展潜力。
四氟化碳的合成工艺有烷烃直接氟化法、氟氯甲烷氟化法、氢氟甲烷氟化法和氟碳直接合成法四种，目前工业上四氟化碳的合成主要采用氟碳直接合成法。这种生产工艺的优点是原料易得、反应可控、产物纯度高。该方法已实现工业化生产，产品纯度高达99.99%以上，可满足电子工业的需求，已成为工业上制备四氟化碳的最主要方法。
未来，如果OLED新工艺得到突破，四氟化碳的需求将会显著增加，2021年国内四氟化碳需求量将超过3000吨，2025年有望超过8000吨
目前我国半导体工厂的四氟化碳50%来自于日本，国内四氟化碳主要生产厂家有科美特，华特气体等。其中，科美特四氟化碳年产能为1200吨/年，气体纯度高、质量稳定，2016年已成为全球晶圆制成公司台积电的合格供应商，另有2000吨/年四氟化碳产能于2018年公告环评；昊华科技全资子公司黎明院拟投资建设1000吨/年四氟化碳的项目，待项目投产后黎明院将成为国内第二大四氟化碳生产厂商。
